C-3-125 銅蒸気レーザ (波長255nm) によるGe-dopedシリカガラスの屈折率変化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-08-29
著者
-
岡本 和也
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
奥出 聡
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
奥出 聡
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
西出 研二
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
中居 道弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
西出 研二
フジクラ 光電子技研
-
西出 研二
株式会社フジクラ
-
中居 道弘
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
中居 道弘
株式会社フジクラ 光エレクトロニクス研究所
関連論文
- C-3-19 スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器の信頼性
- 分散補償ファイバグレーティングにおける群遅延時間評価方法
- ファイバグレーティングの群遅延時間特性評価方法
- 映像多重B-PON用簡易構造WDM部品 : 高アイソレーション特性を有するWDM部品の開発(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- B-13-27 石英ロッドレンズを用いた温度補償型光圧力センサ(B-13.光ファイバ応用技術, 通信2)
- ロッドレンズを用いた光ファイバ圧力センサの検討(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス, 光集積回路, 一般)
- 高出力・高安定化コンバイナー
- 捻り法を用いたファイバ型狭スペーシングWDMカプラ
- 高出力、高安定化LDコンバイナ
- C-3-81 低損失金光ファイバ型偏波ビームコンバイナ
- 純粋石英コアファイバの残留応力解放による長周期ファイバグレーティング
- 選択デポジションによる曲り導波路の低損失化
- 光ADM用ファイバブラッググレーティングの開発
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- B-13-15 石英ロッドレンズによる光圧力センサ(B-13. 光ファイバ応用技術, 通信2)
- 小型ロッドレンズを用いた圧力センサ
- C-3-109 温度補償型FBG歪センサ(ファイバグレーティング,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- PDLを低減した光ファイバカプラ
- シリコンマイクロレンズを用いたワンチップ光送受信光集積チップ(μBOSA)の開発(光部品の実装・信頼性,一般)
- シリコンマイクロレンズを用いたワンチップ光送受信光集積チップ(μBOSA)の開発(光部品の実装・信頼性,一般)
- ファイバ端面フィルタの試作
- 広帯域ファイバグレーティングフィルタの試作
- ファイバグレーティングを用いたチャンネル分割型分散補償モジュール
- Y分岐型光導波路の最適設計
- Y分岐導波路の低損失化
- Yb添加光ファイバにおけるフォトダークニングの反転分布率依存性と高濃度Al添加によるフォトダークニングの抑制
- C-3-41 Yb添加光ファイバにおけるフォトダークニングの反転分布率依存性と高濃度Al添加によるフォトダークニングの抑制(光ファイバ・ファイバグレーティング・補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- シリコンマイクロレンズを用いたワンチップ光送受信光集積チップ(μBOSA)の開発(光部品の実装・信頼性,一般)
- B-10-103 温度補償型光ファイバブラッググレーティング
- PANDA-EDFとその応用
- スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器とその信頼性
- B-10-164 SPM法による各種ファイバの非線形屈折率係数の評価
- B-13-29 多孔キャピラリを用いた設計自由度の高いポンプコンバイナ(B-13.光ファイバ応用技術,一般講演)
- B-13-3 ツインコアファイバを用いた光ファイバフィルタ
- 分散補償用ファイバBraggグレーティング
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- 温度無依存型長周期ファイバグレーティング
- 高遮断型ファイバグレーティングフィルタ(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,フォトニック結晶,MEMS)光ファイバ,一般)
- 光通信デバイス用光ファイバー
- C-3-102 高アイソレーション特性を有する光合分波器の開発(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-32 エキシマランプ照射による紫外線感受性ロッキング効果(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
- 次世代高速通信用分散補償ファイバグレーティング
- エキシマランプ(λ=172nm)を用いた分散補償ファイバグレーティングの分散量制御
- C-3-53 リング構造を用いた可変分散補償ファイバグレーティング
- C-3-51 エキシマランプ (λ=172nm) を用いた分散補償ファイバグレーティング
- C-3-115 二重リング構造による二次分散可変 FBG
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- C-3-38 二重リング構造による可変分散補償FBG
- B-13-27 複合構造による広帯域小型WDMカプラ
- 偏波保持(PM)溶融型光機能部品
- 偏波面保持980/1550、1480/1550nm WDMファイバカプラ
- C-3-125 銅蒸気レーザ (波長255nm) によるGe-dopedシリカガラスの屈折率変化
- C-3-124 超高圧水素処理によるファイバグレーティングの作製
- C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
- B-13-3 全ファイバ型980/1550mm偏波面保持WDMカプラ
- B-13-9 ファイバ型カプラの耐高光入力特性
- B-13-8 全ファイバ型偏波面保持WDMカプラ
- 全ファイバ型 PBC (Polarization Beam Combiner) の特性
- 全ファイバ型PBC(Polarization Beam Combiner)の特性
- B-13-18 消光比測定器を用いた偏波クロストーク測定における位相依存の低減
- B-13-10 溶融延伸型偏波保持ファイバカプラ
- C-3-30 分散補償ファイバグレーティングの群遅延時間リップル抑制
- PANDAファイバグレーティングを用いた温度-歪み同時計測
- ファイバグレーティングにおけるクラッドモード結合の数値解析
- ファイバブラッググレーティングのクラッドモード結合損失の抑制
- コアドーパントの熱拡散を利用したチャープトファイバグレーティング
- ファイバブラッググレーティング
- 光ファイバの非線形屈折率のGeO_2濃度依存性
- 全PANDAファイバ型偏波ビームコンバイナ
- 全光ファイバ型偏波ビームコンバイナの信頼性
- ウェーハレベルパッケージ技術を用いたIC内蔵ポリイミド多層配線板(次世代電子機器における先端実装技術と環境調和型実装技術論文)
- 偏光依存性を低減した光ファイバカプラ
- 各種SMファイバの非線形屈折率の測定
- 光ファイバブラッググレーティングリコート用紫外線硬化型樹脂の評価
- テープファイバを用いたファイバグレーティング製作
- 炭酸ガスレ-ザ加熱による応力解放型ファイバグレ-ティング
- ファイバグレーティング技術の動向
- μBOSAを用いた低コストPON光トランシーバ
- 広帯域ファイバグレーティング実装型コネクタ
- 特殊光ファイバによるファイバレーザーの進化
- PANDAファイバグレーティングを用いた温度-歪み同時計測
- C-3-86 光ファイバグレーティングの最新技術動向
- ファイバーグレーティング (特集 光導波路デバイス)
- ファイバグレ-ティングの作製法と応用 (特集 回折光学素子の開発動向(1))
- 小型電気光複合アセンブリを用いたアクティブ光ケーブル(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- 小型電気光複合アセンブリを用いたアクティブ光ケーブル(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- 小型電気光複合アセンブリを用いたアクティブ光ケーブル(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- 小型電気光複合アセンブリを用いたアクティブ光ケーブル(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- 小型電気光複合アセンブリを用いたアクティブ光ケーブル(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)