温度無依存型長周期ファイバグレーティング
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概要
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グレーティングピッチが100μm〜数100μmの長周期ファイバグレーティングは, EDFAのASE光抑制や利得波長依存性を補償するためのフィルタデバイスとして様々な光通信システムにおいて使用されようとしている。しかし, 通常のゲルマニウム添加・コアの光ファイバを用いて長周期ファイバグレーティングと作製した場合, フィルタリングの中心波長の温度依存性が大きいという問題があった。これまで, ファイバのクラッドの屈折率プロファイル調整により長周期グレーティングの温度補償を行なった例が報告されているが, 今回我々は, コアにホウ素を共添加したファイバを用いる方法で温度補償型の長周期ファイバグレーティングを試作したのでそれについて報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
和田 朗
株式会社フジクラ
-
姫野 邦治
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
奥出 聡
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
姫野 邦治
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
姫野 邦治
(株)フジクラ
-
酒井 哲弥
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
山内 良三
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
山内 良三
(株)フジクラ光エレクトロニクス研究所
-
山内 良三
株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所光通信研究部
-
山内 良三
株式会社フジクラ
-
島 研介
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
島 研介
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
山内 良三
フジクラ
-
酒井 哲弥
フジクラ 光電子技研
-
島 研介
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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