酒井 哲弥 | 株式会社フジクラ光電子技術研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
酒井 哲弥
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
酒井 哲弥
フジクラ 光電子技研
-
和田 朗
株式会社フジクラ
-
山内 良三
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
山内 良三
フジクラ
-
山内 良三
株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所光通信研究部
-
山内 良三
株式会社フジクラ
-
相沢 卓也
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
相沢 卓也
株式会社フジクラ
-
酒井 哲弥
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
姫野 邦治
(株)フジクラ
-
姫野 邦治
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
姫野 邦治
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
北林 和大
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
山内 良三
(株)フジクラ
-
和田 朗
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
島田 典昭
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
島 研介
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
北林 和大
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
島 研介
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
山内 良三
フジクラ 光電子技研
-
須藤 正明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
奥出 聡
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
島田 典昭
株式会社フジクラ
-
須藤 正明
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
佐々木 亮
沖電気工業株式会社
-
式井 滋
沖電気工業株式会社
-
和田 朗
(株)フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部
-
式井 滋
古河電気工業株式会社
-
小林 泰子
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
武本 恭介
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
山内 良三
(株)フジクラ光エレクトロニクス研究所
-
島 研介
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
細谷 英行
株式会社フジクラ
-
姫野 邦治
フジクラ 光電子技研
-
畔蒜 富夫
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
細谷 英行
(株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
-
山内 良三
フジクラ 光量子技研
-
畔蒜 富夫
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
奥出 聡
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
奥出 聡
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
姫野 邦治
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
大橋 圭二
株式会社フジクラ
-
鹿嶋 孝文
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
大橋 圭二
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
澤田 稔
株式会社フジクラ
-
杉本 亮
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
鹿嶋 孝文
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
中居 道弘
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
中居 道弘
株式会社フジクラ 光エレクトロニクス研究所
-
小林 泰子
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
西村 文比古
(株)フジクラ
-
西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
坂元 明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
池田 正司
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
中居 道弘
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
小林 泰子
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
杉本 亮
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
瀬木 武
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
監物 巨人
(株)フジクラ
-
西出 研二
フジクラ 光電子技研
-
坂元 明
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
坂元 明
(株)フジクラ
-
鹿嶋 孝文
株式会社フジクラ
-
西出 研二
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
-
野中 源一郎
九州大学薬学部
-
石田 芳也
北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科
-
谷川 庄二
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
井川 寛隆
宇宙航空研究開発機構
-
村山 英晶
東京大学大学院工学系研究科
-
松尾 昌一郎
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
谷川 庄二
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
須藤 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
坂元 明
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
平船 俊一郎
株式会社フジクラ
-
愛川 和彦
株式会社フジクラ
-
大道 浩児
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
寺田 佳弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
中山 真一
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
山崎 成史
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
島田 典昭
(株)フジクラ
-
富田 伸一
株式会社フジクラ
-
中山 真一
株式会社フジクラ光電子技術研究所光プロセス研究部
-
岸原 亮一
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
和田 大地
東大・院
-
和田 大地
東京大学大学院工学系研究科
-
村山 英晶
東京大学
-
中居 道弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
武本 恭介
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
相沢 卓也
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
北林 和大
(株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
-
池田 正司
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
岡田 靖之
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
瀬木 武
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
田中 弘範
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
松本 亮吉
(株)フジクラ
-
秋山 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
山崎 成史
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
熊安 敏
株式会社フジクラ
-
奧出 聡
(株)フジクラ,光エレクトロニクス研究所
-
澤田 稔
(株)フジクラ光エレクトロニクス研究所
-
西村 文比古
株式会社フジクラ
-
秋山 正明
<株>フジクラ光電子技術研究所
-
平船 俊一郎
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
監物 巨人
株式会社フジクラ
-
松本 亮吉
株式会社フジクラ
-
松尾 昌一郎
株式会社フジクラ
-
須藤 正明
(株)フジクラ 光エレクトロニクス研究所
-
大道 浩児
株式会社フジクラ
-
山崎 成史
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
和田 朗
(株)フジクラ佐倉事業所光電子技術研究所光通信研究部
-
瀬木 武
(株)フジクラエネルギー・情報通信カンパニー光事業部光部品製造部
著作論文
- アナログ伝送用エルビウムドープ光ファイバのレーリー散乱による雑音
- アナログ伝送用エルビウムドープ光ファイバにおけるレーリー散乱雑音
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- C-3-31 石英系EDFの利得平坦度と変換効率の改善
- C-3-78 偏波保持FBGを用いた偏波多重OFDR計測(光記録・計測,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- ダブルクラッドホーリーファイバの接続損失の改善
- ダブルクラッドホーリーファイバの接続損失の改善
- ダブルクラッドホーリーファイバの接続損失の改善(アクセス系, 光無線システム, 光映像伝送, 光通信, オペレーション/保守監視, 一般)
- B-13-14 ダブルクラッドホーリーファイバの接続損失の改善(B-13.光ファイバ応用技術, 通信2)
- C-3-118 FTTH用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発(EDFA・POF)(C-3.光エレクトロニクス)
- 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発
- 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発
- 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発(アクセスシステム及びアクセス用光部品,光無線システム(ROF,FWA等)光映像伝送(CATV含む),オペレーション/保守監視,一般)
- 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発(アクセスシステム及びアクセス用光部品,光無線システム(ROF,FWA等)光映像伝送(CATV含む),オペレーション/保守監視,一般)
- Yb添加光ファイバにおけるフォトダークニングの反転分布率依存性と高濃度Al添加によるフォトダークニングの抑制
- C-3-41 Yb添加光ファイバにおけるフォトダークニングの反転分布率依存性と高濃度Al添加によるフォトダークニングの抑制(光ファイバ・ファイバグレーティング・補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- Er添加ZBLANファイバを用いた3μm帯高出力レーザ(センサ,一般)
- C-4-34 3μm 帯 3W 出力 Er 添加 ZBLAN ファイバレーザ
- Tmドープファイバにおける吸収飽和を利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- B-10-103 温度補償型光ファイバブラッググレーティング
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- PANDA-EDFとその応用
- B-13-29 多孔キャピラリを用いた設計自由度の高いポンプコンバイナ(B-13.光ファイバ応用技術,一般講演)
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- C-3-94 レベルイコライザー用小型ゲインブロックの開発
- B-13-3 ツインコアファイバを用いた光ファイバフィルタ
- B-10-102 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 分散補償用ファイバBraggグレーティング
- Braggグレーティング書き込みによる光ファイバ高次モード解析
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- WDM伝送用EDFAにおけるSpectral Hole-Burningの考察
- 温度無依存型長周期ファイバグレーティング
- ファイバグレーティングにおけるクラッドモード結合の数値解析
- ファイバブラッググレーティングのクラッドモード結合損失の抑制
- コアドーパントの熱拡散を利用したチャープトファイバグレーティング
- ファイバブラッググレーティング
- 偏波面保存エルビウム添加光ファイバの増幅特性
- 石英系光ファイバ非線形屈折率のGeO_2濃度依存性(長距離・大容量光通信技術論文小特集)
- 偏波面保存エルビウム添加光ファイバの増幅特性
- コア径変化型SBS抑圧ファイバの試作
- 偏波保持光ファイバ増幅器の偏波保持特性評価
- 光ファイバの非線形屈折率のGeO_2濃度依存性
- C-3-32 メトロWDM用小型EDFAの開発
- C-3-35 ツリウム添加光ファイバを用いたL-band EDFAの利得傾斜補償
- 各種SMファイバの非線形屈折率の測定
- C-3-71 可変利得等化器を用いた光ファイバアンプ
- 温度無依存型長周期ファイバグレ-ティング
- コアド-パントの熱拡散を利用したチャ-プトファイバグレ-ティング
- ツリウム添加光ファイバを用いた利得傾斜補償L-bandエルビウム添加光ファイバ増幅器
- ツリウム添加光ファイバを用いたEDFAの利得傾斜補償