相沢 卓也 | 株式会社フジクラ 光電子技術研究所

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概要

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関連著者

• 相沢 卓也

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 相沢 卓也

  株式会社フジクラ

• 酒井 哲弥

  フジクラ 光電子技研

• 酒井 哲弥

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 山内 良三

  フジクラ

• 山内 良三

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 相沢 卓也

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 岡田 健一

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 伊藤 達也

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 岡田 健一

  Tokyo Inst. Of Technol. Yokohama‐shi Jpn

• 益 一哉

  東京工業大学

• 和田 朗

  株式会社フジクラ

• 山内 良三

  (株)フジクラ

• 山内 良三

  (株)フジクラ光エレクトロニクス研究所

• 岡田 健一

  東京工業大学

• 山内 良三

  フジクラ 光量子技研

• 畠山 英樹

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 伊藤 浩之

  東京工業大学精密工学研究所

• 武本 恭介

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 島田 典昭

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 伊藤 浩之

  東京工業大学ソリューション研究機構

• 伊藤 浩之

  東京工業大学

• 山内 良三

  株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所光通信研究部

• 山内 良三

  株式会社フジクラ

• 細谷 英行

  株式会社フジクラ

• 島田 典昭

  株式会社フジクラ

• 細谷 英行

  (株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 北林 和大

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 北林 和大

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 大橋 一磨

  東京工業大学統合研究院

• 小澤 直行

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所

• 佐藤 正和

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所

• 愛川 和彦

  株式会社フジクラ

• 姫野 邦治

  (株)フジクラ

• 佐渡島 進

  東京工業大学統合研究院

• 鹿嶋 孝文

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 鹿嶋 孝文

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 山内 良三

  フジクラ 光電子技研

• 小林 泰子

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 小林 由佳

  東京工業大学統合研究院

• 和田 朗

  (株)フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部

• 阿部 博史

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 姫野 邦治

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 井添 克昭

  株式会社フジクラ

• 姫野 邦治

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 姫野 邦治

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 上道 雄介

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 愛川 和彦

  (株)フジクラ

• 福田 聡

  東京工業大学統合研究院

• 石井 隆宏

  東京工業大学統合研究院

• 峰山 亜希子

  東京工業大学統合研究院

• 島田 典昭

  (株)フジクラ

• 上道 雄介

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所

• 畠山 英樹

  東京工業大学統合研究院

• 伊籐 雄作

  東京工業大学統合研究院

• 伊籐 達也

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所

• 姫野 邦治

  フジクラ 光電子技研

• 小林 泰子

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 杉本 亮

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 武本 恭介

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 木村 実人

  東京工業大学統合研究院

• 糸井 和久

  (株)フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 佐藤 正和

  (株)フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 阿部 博史

  (株)フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 山内 拓弥

  東京工業大学統合研究院

• 伊藤 達也

  ((株)フジクラ電子デバイス研究所

• 江森 滋

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 伊藤 雄作

  東京工業大学統合研究院

• 糸井 和久

  (株)フジクラ 電子デバイス研究所 マイクロデバイス開発部

• 糸井 和久

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 鹿嶋 孝文

  株式会社フジクラ

• 和田 朗

  (株)フジクラ佐倉事業所光電子技術研究所光通信研究部

• 上道 雄介

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

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著作論文

• C-12-64 WLP技術を用いた低雑音増幅器の検討(C-12. 集積回路C(増幅回路),一般セッション)
• 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
• 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
• 高Q値WLPインダクタおよびその5.8GHz帯LC型電圧制御発振器への応用(配線・実装技術と関連材料技術)
• C-3-118 FTTH用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発(EDFA・POF)(C-3.光エレクトロニクス)
• 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発
• 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発
• 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発(アクセスシステム及びアクセス用光部品,光無線システム(ROF,FWA等)光映像伝送(CATV含む),オペレーション/保守監視,一般)
• 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器の開発(アクセスシステム及びアクセス用光部品,光無線システム(ROF,FWA等)光映像伝送(CATV含む),オペレーション/保守監視,一般)
• 映像配信用高密度実装型光ファイバ増幅器
• C-12-45 WLCSP技術を利用したオンチップ伝送線路配線の検討(C-12.集積回路C(アナログ),一般講演)
• WLP技術によるオンチップ受動部品の形成
• Tmドープファイバにおける吸収飽和を利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
• ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• WDM伝送用EDFAにおけるSpectral Hole-Burningの考察
• C-12-18 WLP技術を用いた低位相雑音なCMOS電圧制御発振器(C-12. 集積回路BC(クロック・発振器),一般セッション)
• C-12-35 WLCSP技術を用いた高FoM電圧制御発振器の検討(C-12.集積回路C(アナログ),一般講演)
• C-12-28 WLCSP技術を用いた可変電力増幅器の検討(C-12.集積回路C(アナログ),一般講演)
• C-12-27 WLCSP技術を用いた広帯域低雑音増幅器の検討(C-12.集積回路C(アナログ),一般講演)
• 980nm励起用偏波保持Er添加光ファイバ
• 分散補償ファイバの接続損失特性
• 電子コンパスの超高速校正システム

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