糸井 和久 | (株)フジクラ 電子デバイス研究所 マイクロデバイス開発部

スポンサーリンク

概要

• 糸井 和久の詳細を見る
• 同名の論文著者
• (株)フジクラ 電子デバイス研究所 マイクロデバイス開発部の論文著者

関連著者

• 糸井 和久

  (株)フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 糸井 和久

  (株)フジクラ 電子デバイス研究所 マイクロデバイス開発部

• 糸井 和久

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 佐藤 正和

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所

• 伊藤 達也

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 岡田 健一

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 益 一哉

  東京工業大学

• 阿部 博史

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 岡田 健一

  東京工業大学

• 伊藤 浩之

  東京工業大学精密工学研究所

• 岡田 健一

  Tokyo Inst. Of Technol. Yokohama‐shi Jpn

• 佐藤 正和

  (株)フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 伊藤 浩之

  東京工業大学ソリューション研究機構

• 伊藤 達也

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 糸井 和久

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 山本 敏

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 末益 龍夫

  フジクラ

• 伊藤 達也

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所

• 末益 龍夫

  (株)フジクラ光電子技術研究所シリコン技術研究部

• 伊藤 浩之

  東京工業大学

• 山内 良三

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 山内 良三

  (株)フジクラ

• 山内 良三

  (株)フジクラ光エレクトロニクス研究所

• 山本 敏

  (株)フジクラ

• 菅原 弘雄

  東京工業大学精密工学研究所

• 末益 龍夫

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 大橋 一磨

  東京工業大学統合研究院

• 相沢 卓也

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 滝沢 功

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 和田 英之

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 山内 良三

  フジクラ

• 相沢 卓也

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 木村 実人

  東京工業大学統合研究院

• 清田 淳紀

  東京工業大学統合研究院

• 杉田 英之

  東京工業大学統合研究院

• 阿部 博史

  (株)フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 川合 茂一

  三洋電機株式会社

• 斉藤 豊

  株式会社タキオン

• 山内 拓弥

  東京工業大学統合研究院

• 菅原 弘雄

  東京工業大学統合研究院

• 山内 良三

  フジクラ 光量子技研

• 和田 英之

  (株)フジクラ光電子技術研究所シリコン技術研究部

もっと見る 閉じる

著作論文

• WLP技術によるオンチップ受動部品の形成
• C-2-77 ウエハレベルパッケージ内蔵オンチップマイクロ波アンテナ(C-2. マイクロ波B(受動デバイス), エレクトロニクス1)
• RF-ID用オンチップアンテナ
• C-2-48 ウェハレベルパッケージ内蔵高性能オンチップインダクタ(C-2.マイクロ波B(受動デバイス))
• A-3-18 指向性アンテナを用いたパッケージ内無線通信(A-3.VLSI設計技術,一般講演)
• C-2-48 ワンチップ無線通信回路に向けたWL-CSP方向性結合器の検討(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般講演)
• 受動素子内臓ウエハレベルパッケージ
• 溶融金属吸引法により作製したAu-Sn充填貫通配線
• シリコン基板へ形成した高アスペクト比貫通配線

スポンサーリンク