北林 和大 | 株式会社フジクラ 光電子技術研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 株式会社フジクラ 光電子技術研究所の論文著者

関連著者

• 酒井 哲弥

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 北林 和大

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 北林 和大

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  フジクラ 光電子技研

• 和田 朗

  株式会社フジクラ

• 相沢 卓也

  株式会社フジクラ

• 相沢 卓也

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 西村 文比古

  (株)フジクラ

• 姫野 邦治

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• 姫野 邦治

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• 姫野 邦治

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• 姫野 邦治

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• 鹿嶋 孝文

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• 中居 道弘

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• 姫野 邦治

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• 瀬木 武

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 鹿嶋 孝文

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• 中居 道弘

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• 中居 道弘

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• 和田 朗

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著作論文

• Yb添加光ファイバにおけるフォトダークニングの反転分布率依存性と高濃度Al添加によるフォトダークニングの抑制
• Er添加ZBLANファイバを用いた3μm帯高出力レーザ(センサ,一般)
• Tmドープファイバにおける吸収飽和を利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
• C-3-32 メトロWDM用小型EDFAの開発
• C-3-35 ツリウム添加光ファイバを用いたL-band EDFAの利得傾斜補償

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