和田 朗 | 株式会社フジクラ
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概要
関連著者
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和田 朗
株式会社フジクラ
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酒井 哲弥
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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酒井 哲弥
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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和田 朗
(株)フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部
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山内 良三
(株)フジクラ光電子技術研究所
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酒井 哲弥
フジクラ 光電子技研
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山内 良三
株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所光通信研究部
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山内 良三
株式会社フジクラ
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山内 良三
フジクラ
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和田 朗
(株)フジクラ佐倉事業所光電子技術研究所光通信研究部
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姫野 邦治
(株)フジクラ
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奥出 聡
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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和田 朗
(株)フジクラ光電子技術研究所
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姫野 邦治
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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奥出 聡
(株)フジクラ光電子技術研究所
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姫野 邦治
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
(株)フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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奥出 聡
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
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和田 朗
RWCP光インターコネクションフジクラ研究室
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西出 研二
フジクラ 光電子技研
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須藤 正明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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愛川 和彦
株式会社フジクラ
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山内 良三
(株)フジクラ光エレクトロニクス研究所
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須藤 正明
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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山内 良三
(株)フジクラ
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相沢 卓也
株式会社フジクラ
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田中 太一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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田中 大一郎
株式会社フジクラ
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相沢 卓也
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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山内 良三
フジクラ 光量子技研
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坂元 明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
株式会社フジクラ
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坂元 明
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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坂元 明
(株)フジクラ
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山内 良三
フジクラ 光電子技研
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佐々木 亮
沖電気工業株式会社
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式井 滋
沖電気工業株式会社
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式井 滋
古河電気工業株式会社
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石井 裕
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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坂元 明
(株)フジクラ光電子技術研究所
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北林 和大
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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社本 尚樹
株式会社フジクラ
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木村 直樹
株式会社フジクラ
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木村 直樹
(株)フジクラ光電子技術研究所
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愛川 和彦
(株)フジクラ
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田中 大一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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澤田 稔
株式会社フジクラ
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鈴木 孝昭
RWCP光インターコネクションフジクラ研究室
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北林 和大
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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田中 信幸
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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社本 尚樹
RWCP光インターコネクションフジクラ研究室
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中居 道弘
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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中居 道弘
株式会社フジクラ 光エレクトロニクス研究所
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小関 健
上智大学理工学部
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工藤 輝彦
上智大学理工学部電気電子工学科
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菅谷 征弘
RWCP光インターコネクションフジクラ研究室
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長沢 豊
(株) フジクラ 光電子技術研究所
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家中 拓也
株式会社フジクラ
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酒井 哲弥
(株)フジクラ光電子技術研究所
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工藤 輝彦
上智大学理工学部情報処理工学科
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叶 拓郎
上智大学理工学部電気電子工学科
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北林 和大
(株)フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
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鈴木 孝昭
(株)フジクラ光電子技術研究所
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小関 健
上智大学理工学部情報理工学科
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工藤 輝彦
上智大学理工学部 情報理工学科
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西出 研二
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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西村 文比古
(株)フジクラ
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須藤 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
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姫野 邦治
(株)フジクラ光電子技術研究所
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佐々木 秀樹
株式会社フジクラ
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日高 啓視
フジクラ
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日高 啓視
株式会社フジクラ
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中居 道弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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長沢 豊
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
Alcoa Fujikura Ltd., Telecommunication Division
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姫野 邦治
フジクラ 光電子技研
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須崎 慎三
株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所
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深澤 正和
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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大内 康弘
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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熊安 敏
株式会社フジクラ
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秋山 正明
<株>フジクラ光電子技術研究所
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須崎 慎三
(株)フジクラ光エレクトロニクス研究所
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大内 康弘
株式会社フジクラ
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須藤 正明
(株)フジクラ 光エレクトロニクス研究所
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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石田 芳也
北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科
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四竃 樹男
東北大
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四竃 樹男
東北大金研
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四竃 樹男
東北大学金属材料研究所
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四竃 樹男
東北大学 金属材料研究所
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角田 恒巳
日本原子力研究所 東海研究所 エネルギーシステム研究部
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大橋 正和
株式会社フジクラ
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松尾 昌一郎
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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二本柳 明展
(株)フジクラ光電子技術研究所
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久留宮 洋一
(株)フジクラ光電子技術研究所
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井添 克昭
株式会社フジクラ
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寺田 佳弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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二本柳 明展
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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中山 真一
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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中楯 健一
株式会社フジクラ 光応用製品事業推進室
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上片野 充
(株)フジクラ
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上片野 充
株式会社フジクラ
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大橋 正和
(株)フジクラ光電子技術研究所
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佐々木 秀樹
(株)フジクラ光電子技術研究所
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富田 伸一
株式会社フジクラ
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中楯 健一
(株)フジクラ
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中山 真一
株式会社フジクラ光電子技術研究所光プロセス研究部
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岸原 亮一
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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山内 良三
フジクラ光通信研究所光通信研究室
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畔蒜 富夫
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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相沢 卓也
(株)フジクラ光電子技術研究所
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須崎 慎三
(株)フジクラ
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長沢 豊
(株)フジクラ光電子技術研究所
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久留宮 洋一
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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稲葉 忠之
株式会社フジクラ
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甲本 克敏
株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所
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粂野 隆昭
株式会社フジクラ光エレクトロニクス研究所
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丹羽 敦彦
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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監物 巨人
(株)フジクラ
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秋山 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
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松本 亮吉
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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丹羽 敦彦
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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江森 滋
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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秋山 正明
フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
フジクラ光電子技術研究所
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和田 朗
フジクラ光電子技術研究所
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中居 道広
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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西村 文比古
株式会社フジクラ
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甲本 克敏
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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社本 尚樹
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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角田 恒巳
日本原子力研究所
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松本 亮吉
株式会社フジクラ
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畔蒜 富夫
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
松尾 昌一郎
株式会社フジクラ
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秋山 正明
フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
フジクラ光電子技術研究所
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和田 朗
フジクラ光電子技術研究所
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山内 良三
フジクラ光電子技術研究所
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佐々木 秀樹
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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四竃 樹男
東北大学
著作論文
- B-13-15 耐放射線光ファイバの重照射場での伝送特性
- アナログ伝送用エルビウムドープ光ファイバのレーリー散乱による雑音
- アナログ伝送用エルビウムドープ光ファイバにおけるレーリー散乱雑音
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 光並列伝送用ファイバアレイ
- C-3-31 石英系EDFの利得平坦度と変換効率の改善
- 純粋石英コアファイバの残留応力解放による長周期ファイバグレーティング
- フッ素添加による低応力導波路の検討
- 選択デポジションによる曲り導波路の低損失化
- 光ADM用ファイバブラッググレーティングの開発
- 狭帯域反射型ファイバグレ-ティングの設計
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- 耐放射線イメージファイバの伝送特性
- 光ファイバパラメトリック増幅器の偏波依存利得飽和について
- 光ファイバパラメトリック増幅器の偏波依存利得飽和について
- 光ファイバパラメトリック増幅器の偏波依存利得飽和について
- B-13-16 低スキューファイバケーブル
- C-3-118 低非線形性を有する負分散補償用分散補償光ファイバモジュール
- 有効コア断面積を拡大したスロープ補償型分散補償ファイバ
- C-3-77 有効コア断面積を拡大したシングルモード光ファイバ
- C-3-5 スキュー低減型多芯高速伝送路の開発
- インファイバマッハツェンダ干渉計
- ファイバ端面フィルタの試作
- スパンファイバにおける偏波モード分散の低減
- 広帯域ファイバグレーティングフィルタの試作
- B-10-103 温度補償型光ファイバブラッググレーティング
- PANDA-EDFとその応用
- B-10-164 SPM法による各種ファイバの非線形屈折率係数の評価
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- C-3-94 レベルイコライザー用小型ゲインブロックの開発
- B-10-102 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 分散補償用ファイバBraggグレーティング
- Braggグレーティング書き込みによる光ファイバ高次モード解析
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- WDM伝送用EDFAにおけるSpectral Hole-Burningの考察
- 温度無依存型長周期ファイバグレーティング
- C-3-115 二重リング構造による二次分散可変 FBG
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- C-3-38 二重リング構造による可変分散補償FBG
- 偏波保持(PM)溶融型光機能部品
- 偏波面保持980/1550、1480/1550nm WDMファイバカプラ
- C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
- C-3-30 分散補償ファイバグレーティングの群遅延時間リップル抑制
- 980nm励起用偏波保持Er添加光ファイバ
- PANDAファイバグレーティングを用いた温度-歪み同時計測
- 最近の光ファイバ技術
- 偏波モード分散のファイバ外径依存性
- ファイバグレーティングにおけるクラッドモード結合の数値解析
- ファイバブラッググレーティングのクラッドモード結合損失の抑制
- ファイバブラッググレーティング
- 偏波面保存エルビウム添加光ファイバの増幅特性
- 偏波面保存エルビウム添加光ファイバの増幅特性
- コア径変化型SBS抑圧ファイバの試作
- 偏波保持光ファイバ増幅器の偏波保持特性評価
- C-3-32 メトロWDM用小型EDFAの開発
- 出力ポート間挿入損失均一化・O〜Lバンド対応1×4スターカプラ(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- ファイバ型光受動デバイスの進展
- C-3-35 ツリウム添加光ファイバを用いたL-band EDFAの利得傾斜補償
- 各種SMファイバの非線形屈折率の測定
- 波長掃引法によるPANDAファイバのモード複屈折率推定
- 偏波保持光ファイバのh-パラメータ測定におけるコヒーレンス度の影響
- ファイバグレーティング技術の動向
- 分散補償ファイバの接続損失特性
- PANDAファイバグレーティングを用いた温度-歪み同時計測
- C-3-86 光ファイバグレーティングの最新技術動向
- ファイバグレ-ティングの作製法と応用 (特集 回折光学素子の開発動向(1))