奥出 聡 | (株)フジクラ 光電子技術研究所
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概要
関連著者
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奥出 聡
(株)フジクラ光電子技術研究所
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奥出 聡
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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著作論文
- ファイバグレーティングの群遅延時間特性評価方法
- 映像多重B-PON用簡易構造WDM部品 : 高アイソレーション特性を有するWDM部品の開発(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- B-13-27 石英ロッドレンズを用いた温度補償型光圧力センサ(B-13.光ファイバ応用技術, 通信2)
- ロッドレンズを用いた光ファイバ圧力センサの検討(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス, 光集積回路, 一般)
- B-13-15 石英ロッドレンズによる光圧力センサ(B-13. 光ファイバ応用技術, 通信2)
- 小型ロッドレンズを用いた圧力センサ
- C-3-109 温度補償型FBG歪センサ(ファイバグレーティング,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- ファイバグレーティングを用いたチャンネル分割型分散補償モジュール
- B-10-103 温度補償型光ファイバブラッググレーティング
- スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器とその信頼性
- B-10-164 SPM法による各種ファイバの非線形屈折率係数の評価
- 高遮断型ファイバグレーティングフィルタ(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,フォトニック結晶,MEMS)光ファイバ,一般)
- 光通信デバイス用光ファイバー
- C-3-102 高アイソレーション特性を有する光合分波器の開発(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-32 エキシマランプ照射による紫外線感受性ロッキング効果(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
- 次世代高速通信用分散補償ファイバグレーティング
- エキシマランプ(λ=172nm)を用いた分散補償ファイバグレーティングの分散量制御
- C-3-53 リング構造を用いた可変分散補償ファイバグレーティング
- C-3-51 エキシマランプ (λ=172nm) を用いた分散補償ファイバグレーティング
- C-3-115 二重リング構造による二次分散可変 FBG
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- C-3-38 二重リング構造による可変分散補償FBG
- C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
- C-3-30 分散補償ファイバグレーティングの群遅延時間リップル抑制
- コアドーパントの熱拡散を利用したチャープトファイバグレーティング
- 光ファイバの非線形屈折率のGeO_2濃度依存性
- ウェーハレベルパッケージ技術を用いたIC内蔵ポリイミド多層配線板(次世代電子機器における先端実装技術と環境調和型実装技術論文)
- ファイバグレーティング技術の動向
- C-3-86 光ファイバグレーティングの最新技術動向