エキシマランプ(λ=172nm)を用いた分散補償ファイバグレーティングの分散量制御
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概要
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波長172nmのエキシマランプを利用した,分散補償ファイバグレーティング(DCFG)の分散制御方法を報告する.エキシマランプ照射による大きな屈折率変化を利用することで,一つの位相マスクから様々な特性を持つDCFGを作製することが可能となる.エキシマランブはエキシマレーザに比べ,装置価格や維持費が安く,保守も容易であることに加え,照射面積が広く,光強度が安定していることから,生産性に優れた方法である.さらに,ユニフオーム周期マスクとエキシマランプ照射を用いてDCFGを作製することで,従来のチャープマスクでは得られなかった振幅幅+/-3ps以下の群遅延リップルを実現した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-09-26
著者
-
奥出 聡
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
坂元 明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
坂元 明
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
木村 直樹
株式会社フジクラ
-
木村 直樹
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
奥出 聡
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
田中 大一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
田中 太一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
田中 大一郎
株式会社フジクラ
-
坂元 明
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
坂元 明
(株)フジクラ
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