偏波面保持980/1550、1480/1550nm WDMファイバカプラ
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
偏波面保持WDM(PM-WDM)ファイバカプラは, 偏波面を保持した信号光と励起光を合波するデバイスであり, 偏波面保持EDFAのような増幅器に適用される。今回, 溶融延伸技術を基に全ファイバ型980/1550nm, 1480/1550nm PANDA-WDMカプラの開発を行った。低挿入損失, 低偏波クロストーク等の優れた光学特性及びTelcordia 1209規格に準拠した信頼性試験より高い信頼性を確保していることも確認された。さらに1Wまでの光パワについても十分な耐性を持つことが確認された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-09-29
著者
-
和田 朗
株式会社フジクラ
-
西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
西出 研二
株式会社フジクラ光電子技術研究所
-
田中 太一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
田中 大一郎
株式会社フジクラ
-
西出 研二
フジクラ 光電子技研
-
西出 研二
株式会社フジクラ
-
深澤 正和
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
大内 康弘
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
大内 康弘
株式会社フジクラ
-
和田 朗
(株)フジクラ佐倉事業所光電子技術研究所光通信研究部
関連論文
- B-13-15 耐放射線光ファイバの重照射場での伝送特性
- C-3-19 スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器の信頼性
- 分散補償ファイバグレーティングにおける群遅延時間評価方法
- ファイバグレーティングの群遅延時間特性評価方法
- アナログ伝送用エルビウムドープ光ファイバのレーリー散乱による雑音
- アナログ伝送用エルビウムドープ光ファイバにおけるレーリー散乱雑音
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 分散補償ファイバのレーリー散乱による雑音特性
- 高出力・高安定化コンバイナー
- 捻り法を用いたファイバ型狭スペーシングWDMカプラ
- 高出力、高安定化LDコンバイナ
- C-3-81 低損失金光ファイバ型偏波ビームコンバイナ
- 光並列伝送用ファイバアレイ
- C-3-31 石英系EDFの利得平坦度と変換効率の改善
- 純粋石英コアファイバの残留応力解放による長周期ファイバグレーティング
- フッ素添加による低応力導波路の検討
- 選択デポジションによる曲り導波路の低損失化
- 光ADM用ファイバブラッググレーティングの開発
- 狭帯域反射型ファイバグレ-ティングの設計
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- 多波長増幅EDFAにおけるスペクトルホールバーニング
- PDLを低減した光ファイバカプラ
- 耐放射線イメージファイバの伝送特性
- 光ファイバパラメトリック増幅器の偏波依存利得飽和について
- 光ファイバパラメトリック増幅器の偏波依存利得飽和について
- 光ファイバパラメトリック増幅器の偏波依存利得飽和について
- B-13-16 低スキューファイバケーブル
- C-3-118 低非線形性を有する負分散補償用分散補償光ファイバモジュール
- 有効コア断面積を拡大したスロープ補償型分散補償ファイバ
- C-3-77 有効コア断面積を拡大したシングルモード光ファイバ
- C-3-5 スキュー低減型多芯高速伝送路の開発
- インファイバマッハツェンダ干渉計
- ファイバ端面フィルタの試作
- スパンファイバにおける偏波モード分散の低減
- 広帯域ファイバグレーティングフィルタの試作
- ファイバグレーティングを用いたチャンネル分割型分散補償モジュール
- B-10-103 温度補償型光ファイバブラッググレーティング
- PANDA-EDFとその応用
- B-10-164 SPM法による各種ファイバの非線形屈折率係数の評価
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- C-3-94 レベルイコライザー用小型ゲインブロックの開発
- B-13-3 ツインコアファイバを用いた光ファイバフィルタ
- B-10-102 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 分散補償用ファイバBraggグレーティング
- Braggグレーティング書き込みによる光ファイバ高次モード解析
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- WDM伝送用EDFAにおけるSpectral Hole-Burningの考察
- 温度無依存型長周期ファイバグレーティング
- C-3-115 二重リング構造による二次分散可変 FBG
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
- C-3-38 二重リング構造による可変分散補償FBG
- B-13-27 複合構造による広帯域小型WDMカプラ
- 偏波保持(PM)溶融型光機能部品
- 偏波面保持980/1550、1480/1550nm WDMファイバカプラ
- C-3-125 銅蒸気レーザ (波長255nm) によるGe-dopedシリカガラスの屈折率変化
- C-3-124 超高圧水素処理によるファイバグレーティングの作製
- C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
- B-13-3 全ファイバ型980/1550mm偏波面保持WDMカプラ
- B-13-9 ファイバ型カプラの耐高光入力特性
- B-13-8 全ファイバ型偏波面保持WDMカプラ
- 全ファイバ型 PBC (Polarization Beam Combiner) の特性
- 全ファイバ型PBC(Polarization Beam Combiner)の特性
- B-13-18 消光比測定器を用いた偏波クロストーク測定における位相依存の低減
- B-13-10 溶融延伸型偏波保持ファイバカプラ
- C-3-30 分散補償ファイバグレーティングの群遅延時間リップル抑制
- 980nm励起用偏波保持Er添加光ファイバ
- PANDAファイバグレーティングを用いた温度-歪み同時計測
- 最近の光ファイバ技術
- 偏波モード分散のファイバ外径依存性
- ファイバグレーティングにおけるクラッドモード結合の数値解析
- ファイバブラッググレーティングのクラッドモード結合損失の抑制
- ファイバブラッググレーティング
- 偏波面保存エルビウム添加光ファイバの増幅特性
- 偏波面保存エルビウム添加光ファイバの増幅特性
- コア径変化型SBS抑圧ファイバの試作
- 偏波保持光ファイバ増幅器の偏波保持特性評価
- C-3-32 メトロWDM用小型EDFAの開発
- 出力ポート間挿入損失均一化・O〜Lバンド対応1×4スターカプラ(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- 全PANDAファイバ型偏波ビームコンバイナ
- ファイバ型光受動デバイスの進展
- C-3-35 ツリウム添加光ファイバを用いたL-band EDFAの利得傾斜補償
- 各種SMファイバの非線形屈折率の測定
- 波長掃引法によるPANDAファイバのモード複屈折率推定
- 偏波保持光ファイバのh-パラメータ測定におけるコヒーレンス度の影響
- ファイバグレーティング技術の動向
- 分散補償ファイバの接続損失特性
- PANDAファイバグレーティングを用いた温度-歪み同時計測
- C-3-86 光ファイバグレーティングの最新技術動向
- ファイバグレ-ティングの作製法と応用 (特集 回折光学素子の開発動向(1))