西出 研二 | フジクラ 光電子技研
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概要
関連著者
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西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
フジクラ 光電子技研
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西出 研二
株式会社フジクラ
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西出 研二
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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田中 大一郎
株式会社フジクラ
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西出 研二
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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和田 朗
株式会社フジクラ
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松本 亮吉
株式会社フジクラ
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島 研介
(株)フジクラ光電子技術研究所
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大内 康弘
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
-
松本 亮吉
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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島 研介
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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大内 康弘
株式会社フジクラ
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奥出 聡
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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山内 良三
(株)フジクラ光電子技術研究所
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山内 良三
(株)フジクラ
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和田 朗
(株)フジクラ佐倉事業所光電子技術研究所光通信研究部
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佐々木 秀樹
株式会社フジクラ
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山内 良三
フジクラ 光電子技研
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奥出 聡
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
中居 道弘
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
中居 道弘
株式会社フジクラ 光エレクトロニクス研究所
-
和田 朗
(株)フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部
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石井 裕
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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大橋 正和
株式会社フジクラ
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須藤 正明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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大橋 正和
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
田中 大一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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須藤 正明
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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山崎 成史
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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深澤 正和
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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岡本 和也
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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小島 玲子
フジクラ 光電子技研
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坂元 明
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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須藤 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
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奥出 聡
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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山崎 成史
(株)フジクラ光電子技術研究所
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菅谷 征弘
株式会社フジクラ
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中居 道弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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田中 太一郎
(株)フジクラ光電子技術研究所
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山内 良三
フジクラ
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野口 貴充
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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秋山 正明
<株>フジクラ光電子技術研究所
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坂元 明
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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菅谷 征弘
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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須藤 正明
(株)フジクラ 光エレクトロニクス研究所
-
山崎 成史
(株)フジクラ 光電子技術研究所
-
小島 玲子
(株)フジクラ光電子技術研究所
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坂元 明
(株)フジクラ光電子技術研究所
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酒井 哲弥
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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酒井 哲弥
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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中居 道弘
(株)フジクラ光電子技術研究所
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佐々木 秀樹
(株)フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
Alcoa Fujikura Ltd., Telecommunication Division
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島 研介
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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酒井 哲弥
(株)フジクラ光電子技術研究所
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坂元 明
(株)フジクラ
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酒井 哲弥
フジクラ 光電子技研
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佐々木 秀樹
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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二本柳 明展
(株)フジクラ光電子技術研究所
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小島 玲子
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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島田 典昭
株式会社フジクラ
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野口 善清
株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部
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野口 善清
(株)フジクラ光電子技術研究所
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二本柳 明展
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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島田 典昭
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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鹿嶋 孝文
(株)フジクラ光電子技術研究所
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粟村 哲利
(株)フジクラ光電子技術研究所
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日高 啓視
(株)フジクラ光電子技術研究所
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鈴木 文生
フジクラ
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鈴木 文生
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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山内 良三
フジクラ光通信研究所光通信研究室
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鹿嶋 孝文
株式会社フジクラ光電子技術研究所
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丹羽 敦彦
株式会社フジクラ 光電子技術研究所
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松本 亮吉
(株)フジクラ
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秋山 正明
(株)フジクラ光電子技術研究所
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井上 邦彦
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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丹羽 敦彦
(株)フジクラ 光電子技術研究所
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秋山 正明
フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
フジクラ光電子技術研究所
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和田 朗
フジクラ光電子技術研究所
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野口 貴充
(株)フジクラ光電子技術研究所
-
岡本 和也
(株)フジクラ光電子技術研究所
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野口 貴充
(株)フジクラ 電子電装開発センター 自動車電装開発部
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秋山 正明
フジクラ光電子技術研究所
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西出 研二
フジクラ光電子技術研究所
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島 研介
フジクラ光電子技術研究所
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和田 朗
フジクラ光電子技術研究所
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山内 良三
フジクラ光電子技術研究所
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鈴木 文生
(株)フジクラ
著作論文
- C-3-19 スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器の信頼性
- 分散補償ファイバグレーティングにおける群遅延時間評価方法
- ファイバグレーティングの群遅延時間特性評価方法
- 高出力・高安定化コンバイナー
- 捻り法を用いたファイバ型狭スペーシングWDMカプラ
- 高出力、高安定化LDコンバイナ
- C-3-81 低損失金光ファイバ型偏波ビームコンバイナ
- 純粋石英コアファイバの残留応力解放による長周期ファイバグレーティング
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- 回転露光法による長周期ファイバグレーティングのPDL低減
- PDLを低減した光ファイバカプラ
- B-13-3 ツインコアファイバを用いた光ファイバフィルタ
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- B-13-27 複合構造による広帯域小型WDMカプラ
- 偏波保持(PM)溶融型光機能部品
- 偏波面保持980/1550、1480/1550nm WDMファイバカプラ
- C-3-125 銅蒸気レーザ (波長255nm) によるGe-dopedシリカガラスの屈折率変化
- C-3-124 超高圧水素処理によるファイバグレーティングの作製
- C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
- B-13-3 全ファイバ型980/1550mm偏波面保持WDMカプラ
- B-13-9 ファイバ型カプラの耐高光入力特性
- B-13-8 全ファイバ型偏波面保持WDMカプラ
- 全ファイバ型 PBC (Polarization Beam Combiner) の特性
- 全ファイバ型PBC(Polarization Beam Combiner)の特性
- B-13-18 消光比測定器を用いた偏波クロストーク測定における位相依存の低減
- B-13-10 溶融延伸型偏波保持ファイバカプラ
- C-3-30 分散補償ファイバグレーティングの群遅延時間リップル抑制
- 全PANDAファイバ型偏波ビームコンバイナ
- 全光ファイバ型偏波ビームコンバイナの信頼性
- 偏光依存性を低減した光ファイバカプラ
- 光ファイバブラッググレーティングリコート用紫外線硬化型樹脂の評価
- テープファイバを用いたファイバグレーティング製作
- 炭酸ガスレ-ザ加熱による応力解放型ファイバグレ-ティング