奥出 聡 | (株)フジクラ光電子技術研究所

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概要

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関連著者

• 奥出 聡

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 奥出 聡

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 坂元 明

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 坂元 明

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 坂元 明

  (株)フジクラ

• 和田 朗

  (株)フジクラ 光電子技術研究所 光通信研究部

• 坂元 明

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 和田 朗

  株式会社フジクラ

• 木村 直樹

  株式会社フジクラ

• 木村 直樹

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 田中 太一郎

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 田中 大一郎

  株式会社フジクラ

• 奥出 聡

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 田中 大一郎

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 和田 朗

  (株)フジクラ佐倉事業所光電子技術研究所光通信研究部

• 西出 研二

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 須藤 正明

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 須藤 正明

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 西出 研二

  フジクラ 光電子技研

• 西脇 賢治

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 野口 善清

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 須藤 正明

  (株)フジクラ 光エレクトロニクス研究所

• 西出 研二

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 須藤 正明

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 西脇 賢治

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 山内 良三

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 山内 良三

  (株)フジクラ

• 二本柳 明展

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 酒井 哲弥

  フジクラ 光電子技研

• 小島 玲子

  フジクラ 光電子技研

• 二本柳 明展

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 小島 玲子

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 西脇 賢治

  株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 野口 善清

  株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 堀本 啓一

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 山内 良三

  フジクラ

• 丹羽 敦彦

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 田中 弘範

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 岡本 和也

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 山中 淳彦

  東洋紡績(株)総合研究所

• 西出 研二

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 小林 照武

  株式会社フジクラ

• 小林 照武

  株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 田中 弘範

  株式会社フジクラ光電子技術研究所光通信研究部

• 松浦 隆明

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 奥出 聡

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 奥出 聡

  (株)フジクラ 光電子枝術研究所

• 愛川 和彦

  株式会社フジクラ

• 姫野 邦治

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 姫野 邦治

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 姫野 邦治

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• 酒井 哲弥

  株式会社フジクラ 光電子技術研究所

• 愛川 和彦

  (株)フジクラ

• 堀本 啓一

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 額賀 理

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 額賀 理

  (株)フジクラ光電子技術研究所

• 中尾 知

  株式会社フジクラ電子デバイス研究所マイクロデバイス開発部

• 澤田 稔

  株式会社フジクラ

• 中居 道弘

  株式会社フジクラ光電子技術研究所

• 山中 淳彦

  東洋紡

• 平畑 裕嗣

  東洋紡績(株)

• 西出 研二

  株式会社フジクラ

• 丹羽 敦彦

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 澤田 稔

  (株)フジクラ光エレクトロニクス研究所

• 岡本 誠裕

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 鈴木 孝直

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 中尾 知

  (株)フジクラ電子デバイス研究所

• 二本柳 明展

  株式会社フジクラ

• 浅野 健一郎

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 山中 淳彦

  東洋紡績(株)

• 山内 良三

  フジクラ 光電子技研

• 中居 道弘

  (株)フジクラ 光電子技術研究所

• 中居 道弘

  株式会社フジクラ 光エレクトロニクス研究所

• 丹羽 敦彦

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著作論文

• C-3-19 スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器の信頼性
• ファイバグレーティングの群遅延時間特性評価方法
• 映像多重B-PON用簡易構造WDM部品 : 高アイソレーション特性を有するWDM部品の開発(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
• B-13-27 石英ロッドレンズを用いた温度補償型光圧力センサ(B-13.光ファイバ応用技術, 通信2)
• ロッドレンズを用いた光ファイバ圧力センサの検討(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス, 光集積回路, 一般)
• B-13-15 石英ロッドレンズによる光圧力センサ(B-13. 光ファイバ応用技術, 通信2)
• 小型ロッドレンズを用いた圧力センサ
• C-3-109 温度補償型FBG歪センサ(ファイバグレーティング,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• ファイバグレーティングを用いたチャンネル分割型分散補償モジュール
• B-10-103 温度補償型光ファイバブラッググレーティング
• スラント型ファイバグレーティングを用いた利得等化器とその信頼性
• B-10-164 SPM法による各種ファイバの非線形屈折率係数の評価
• 高遮断型ファイバグレーティングフィルタ(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,フォトニック結晶,MEMS)光ファイバ,一般)
• 光通信デバイス用光ファイバー
• C-3-102 高アイソレーション特性を有する光合分波器の開発(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
• C-3-32 エキシマランプ照射による紫外線感受性ロッキング効果(FBG)(C-3.光エレクトロニクス)
• 次世代高速通信用分散補償ファイバグレーティング
• エキシマランプ(λ=172nm)を用いた分散補償ファイバグレーティングの分散量制御
• C-3-53 リング構造を用いた可変分散補償ファイバグレーティング
• C-3-51 エキシマランプ (λ=172nm) を用いた分散補償ファイバグレーティング
• C-3-115 二重リング構造による二次分散可変 FBG
• 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
• 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
• 二重リング構造を用いた分散量可変ファイバグレーティング
• C-3-38 二重リング構造による可変分散補償FBG
• C-3-125 銅蒸気レーザ (波長255nm) によるGe-dopedシリカガラスの屈折率変化
• C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
• C-3-30 分散補償ファイバグレーティングの群遅延時間リップル抑制
• コアドーパントの熱拡散を利用したチャープトファイバグレーティング
• 光ファイバの非線形屈折率のGeO_2濃度依存性
• ウェーハレベルパッケージ技術を用いたIC内蔵ポリイミド多層配線板(次世代電子機器における先端実装技術と環境調和型実装技術論文)
• ファイバグレーティング技術の動向
• C-3-86 光ファイバグレーティングの最新技術動向
• ファイバーグレーティング (特集 光導波路デバイス)
• ファイバグレ-ティングの作製法と応用 (特集 回折光学素子の開発動向(1))

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