秋山 正明 | <株>フジクラ光電子技術研究所
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概要
関連著者
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西出 研二
(株)フジクラ光電子技術研究所
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(株)フジクラ光電子技術研究所
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<株>フジクラ光電子技術研究所
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(株)フジクラ 光電子技術研究所
著作論文
- 純粋石英コアファイバの残留応力解放による長周期ファイバグレーティング
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- 炭酸ガスレ-ザ加熱による応力解放型ファイバグレ-ティング