Y分岐導波路の低損失化

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概要

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1×Nスプリッタ等の基本構成要素である分岐素子の低損失化はモジュールの特性を決定する重要なファクターと言える。同時に、素子の小型化も生産性の面から重要である。分岐素子の構造は、リソグラフと反応性イオンエッチ法により作製するが、分岐又部の加工限界があるために低損失な素子を再現性良く作製するためには、有限の加工精度を考慮し、設計を行う必要がある。本検討では、加工精度、素子長を考慮した低損失分岐導波路について報告する。
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-03-11

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