携帯機器用画像処理システムLSI向け小面積、低消費電力混載DRAMマクロ (<特集>メモリ・混載メモリ及びIC一般)
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概要
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携帯機器用画像処理システムLSI向けに小面積・低消費電力の32Mビット混載DRAMマクロを0.13umDRAM混載プロセスにより開発した。このマクロは、新規レベルシフター、メモリーアレイ分散駆動、プリブースト型内部降圧回路等の回路技術と高性能トランジスタ、低抵抗ポリメタルゲート、Cu配線等の0.13umプロセス技術により、1.0V時に230MHzのコラムアクセス実現し、バーストアクセス時消費電力を198mWまで削減した。また先端DRAMセルと高密度ロジックプロセス技術を駆使し、さらに新規メモリーアレイ回路技術の採用により、18.9mm^2のマクロサイズ及び51.3%のメモリーセル比率を実現した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-04-05
著者
-
日高 秀人
株式会社ルネサステクノロジ
-
柴山 晃徳
松下電器産業(株)半導体社開発本部半導体先行開発センター
-
柴山 晃徳
松下電器産業株式会社
-
辻 高晴
株式会社ルネサステクノロジ
-
辻 高晴
三菱電機株式会社ULSI技術開発センタ
-
加藤 宏
三菱電機(株)ulsi技術開発センター
-
菊川 博仁
松下電器産業半導体研究センター
-
高橋 和也
松下電器産業(株)半導体社開発本部
-
冨嶋 茂樹
三菱電機(株)ULSI開発研究所
-
谷崎 弘晃
株式会社ルネサスデザイン
-
大石 司
株式会社ルネサステクノロジ
-
石川 正敏
(株)ルネサステクノロジ
-
辻 高晴
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
-
川崎 利昭
松下電器産業(株)半導体社開発本部
-
谷崎 弘晃
三菱電機エンジニアリング(株)ULSI技術開発センター
-
石川 正敏
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
-
安部 渉
松下電器産業(株)半導体社開発本部
-
大石 司
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
-
日高 秀人
三菱電機(株)ULSI技術開発センター
-
井口 敏祐
松下電器産業(株)半導体開発本部
-
井口 敏祐
松下電器産業(株)半導体社開発本部
-
菊川 博仁
松下電器産業(株)半導体社開発本部
-
加藤 宏
三菱電機(株)
-
冨嶋 茂樹
三菱電機(株)ulsi技術開発センター
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