三ふっ化塩素を用いたシリコンのテクスチャ化と光学的評価
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概要
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Si大陽電池において表面反射損を低減するテクスチャ化を三ふっ化塩素ガスを用いたプラズマレスエッチングにより試みた. 表面の観察により, 微細な凹凸形状を確認した. 更に, 可視光の反射率測定を行い, エッチングにより反射率が約10%まで減少することがわかった.
- 1997-11-25
著者
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