リモートプラズマ励起CF_3COF/O_2ガスを用いたシリコン、酸化膜のエッチング
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概要
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- 1999-11-11
著者
-
齋藤 洋司
成蹊大学工学部電気電子学科
-
齋藤 洋司
成蹊大学理工学部
-
山崎 博史
成蹊大学工学部電気電子工学科
-
徳田 浩一
成蹊大学 工学部 電気電子工学科
-
毛利 勇
成蹊大学工学部電気電子工学科
-
毛利 勇
セントラル硝子(株)化学研究所
-
齋藤 洋司
成蹊大学 工学部 電気電子工学科
-
市川 正人
成蹊大学
-
毛利 勇
セントラル硝子(株) 化学研究所
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