三フッ化塩素処理シリコンの表面形状と光学的評価
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概要
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半導体太陽電池の表面を凹凸に加工することにより反射損失を低減させ高効率化することが試みられている.従来からアルカリ溶液を用いた異方性エッチングにより逆ピラミッド構造に形成することが行われているが,多結晶基板には適用できず,溶液の管理などの問題がある.本研究ではシリコン表面に三フッ化塩素ガスを用いた等方性ドライエッチング処理を行い,テクスチャエッチングしたときの表面形状と光学的反射率について検討した.シリコン表面の微細な凹凸形状による入射光の多重反射により,低反射率が得られることが分かった.エッチング時間および基板温度を変えることにより表面の凹凸の形状を制御き,最適条件では表面の反射率を10%程度まで低減できることが分かった.
- 1996-12-06
著者
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