スパッタ法による酸化亜鉛薄膜形成時における酸素欠損の発生
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概要
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スパッタ法でZnO薄膜を作製した場合の酸素欠損発生の原因をイオン衝撃またはプラズマから生じる紫外光の影響の観点から調べた. イオン衝撃は, 基板バイアスの実験から酸素欠損を発生させにくくすると考えられた. 紫外光によりキャリヤが励起され酸素が脱離する可能性が大きいことを示す.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-25
著者
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