三フッ化アセチルフロライドを用いたシリコン系材料のエッチング
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
地球温暖化効果を引き起こさないシリコン材料エッチング用ガスとして分解・回収の容易な三フッ化アセチルフロライドガスを提案する。本報告では、リモートプラズマ励起しながら酸素を少量混合することにより、エッチング速度が高められ、同様な条件でのCF_4/O_2やC_2F_6/O_2系よりも反応性が高いことを示す。プラズマ発光分析により推定したフッ素ラジカル濃度の酸素分圧依存性と試料表面の光電子分光分析より、酸素添加効果は主に表面に吸着したフロロカーボン層の除去であると推定された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-05-12
著者
-
齋藤 洋司
成蹊大学工学部電気電子学科
-
齋藤 洋司
成蹊大学理工学部
-
山崎 博史
成蹊大学工学部電気電子工学科
-
毛利 勇
成蹊大学工学部電気電子工学科
-
毛利 勇
セントラル硝子(株)化学研究所
-
毛利 勇
セントラル硝子(株) 化学研究所
関連論文
- 金属アルコキシドを用いた湿式化学法によるCdTe膜の形成と特性評価
- スズ添加によるシリコン固相成長促進現象
- Poly(etheretherketone) (PEEK) をターゲットとした高周波スパッタリング法による薄膜作製とその評価
- 多結晶シリコン太陽電池の水素パッシベーション促進プロセス
- プラズマレスドライエッチングによるシリコン表面処理とその赤外線センサ作製への応用 (情報センシング)
- プラズマレスドライエッチングによるシリコン表面処理とその応用
- 無水フッ化水素を用いたシリコン系材料のリモートプラズマエッチングにおけるヘリウム添加効果
- 微細構造形成装置
- スピンオンシリコン酸化膜熱処理温度の無水フッ化水素エッチングへの影響
- シリコン上へのジルコニウム酸窒化薄膜の形成と誘電特性
- 窒化酸化における窒素の導入過程と膜構造へ与える効果の検討
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス(2)
- 三フッ化アセチルフロライドを用いたシリコン系材料のエッチング
- 窒化酸化における窒素の導入過程と膜構造へ与える効果の検討
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス(2)
- 三フッ化アセチルフロライドを用いたシリコン系材料のエッチング
- 窒化酸化における窒素の導入過程と膜構造へ与える効果の検討
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス(2)
- 三フッ化アセチルフロライドを用いたシリコン系材料のエッチング
- リモートプラズマ励起CF_3COF/O_2ガスを用いたシリコン、酸化膜のエッチング
- 三フッ化塩素を用いたシリコン表面処理と光収集高効率化への応用
- シリコン窒化酸化過程の角度分解光電子分光解析
- シリコン窒化酸化過程の角度分解光電子分光解析
- シリコン窒化酸化過程の角度分解光電子分光解析
- 三ふっ化塩素を用いたシリコンのテクスチャ化と光学的評価
- 大気圧プラズマによるガラス材料の表面処理
- プラズマ励起水素によるタングステン膜の形成
- 三フッ化塩素処理シリコンの表面形状と光学的評価
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス
- 励起無水フッ化水素による自然酸化膜の選択的エッチング
- 励起無水フッ化水素による自然酸化膜の選択的エッチング
- 励起無水フッ化水素による自然酸化膜の選択的エッチング
- フッ素系ガスによる薄膜堆積装置のクリーニング
- スパッタ法による酸化亜鉛薄膜形成時における酸素欠損の発生
- 基礎講座「ナノマテリアルのシミュレーション実習」に寄せて
- プラズマレスドライエッチングによるシリコン表面処理とその光・電気変換素子作製プロセスへの応用
- 原子状水素照射によるシリコン表面吸着フッ素の脱離促進現象