無水HFガスを用いた自然酸化膜エッチングにおける表面状態の観察

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概要

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集積回路の高集積化、微細化、高性能化に伴い、シリコン表面上に形成された自然酸化膜の影響が無視できなくなり、自然酸化膜エッチングの重要性が増している。本研究では、無水HFガスを用いたドライエッチングに着目し、Ar励起プラズマを用いることによって、自然酸化膜エッチングの促進を試みた。放電電力および無水HF分圧の増加に伴い、エッチング速度が増加した。また、無水HF処理後の表面についてX線光電子分光分析を行った結果、プラズマを印加しなくても表面に無水HF分子が吸着し、プラズマを印加すると酸化膜が削れ、F-H結合がF-Si結合に置き換えられていくことが確認できた。
1997-04-24

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