ナノインシュレーションベッドをベースにしたナノワイヤリングプロセス(有機エレクトロニクス・一般)
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概要
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ナノメータレベルの寸法を有する配線技術、ナノワイヤリングのプロセスを提案した。バリヤフリーの量子デバイス評価回路として、ナノインシュレーションベッドを提案しているが、ナノワイヤリングプロセスは、このナノインシュレーションベッドをベースに配線回路が作成する方法である。n型Si基板上に、レジストで100nmL&Sの溝を作成し、メッキ材料のNaAuCl_4をエタノールに0.5atom%溶解させ、電界メッキ法によりAuを、その溝に埋める方法で、ナノワイヤ回路の作成を試みた。その結果、100nmL&Sの溝に沿って、Auメッキが出来ることを確認した。今後、ナノインシュレーションベッドの導電性領域への超微細配線のAuメッキ回路の作成を行う。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-01-14
著者
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