C-13-7 PMMA溝中へのポリスチレン微小球(2μmφ)配列
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-03-07
著者
関連論文
- C-S-Au膜の3次非線形電気光学効果特性
- 脂肪酸LB膜レジストを用いたsub 100nmリソグラフィ
- ポリイミド隔膜透過電子線励起ICPによる100nm超微細加工
- C-13-7 PZT強誘電体極性反転放出電子による励起発光素子(C-13.有機エレクトロニクス,一般講演)
- PZT強誘電体極性反転放出電子によるアントラセン励起発光
- ナノワイヤ回路の作成プロセス
- C-13-3 C-Au-S膜を用いるナノワイヤリングプロセス(C-13.有機エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
- 70μmPZT素子の電子放出実験(有機エレクトロニクス・一般)
- 70μmPZT素子の電子放出実験
- 電子線透過膜用ポリイミド超薄膜の作製
- 垂直照射SR光励起によるSiウェーハのCF_4プラズマエッチング
- 高分子隔膜透過電子線励起プラズマによるサブミクロンエッチング加工
- ナノインシュレーションベッドをベースにしたナノワイヤリングプロセス
- ナノインシュレーションベッドをベースにしたナノワイヤリングプロセス(有機エレクトロニクス・一般)
- プラズマプロセスによるナノインシュレーションベッドの提案
- SC-9-8 マイクロリソグラフィにおけるレジスト-基板界面結合
- ポリスチレンレジスト-Si表面間の界面アンカー効果によるパターン形成
- C-13-3 スチレンプラズマグラフト重合レジストによる50nm L&Sパターン形成
- プラズマCVD-スパッタリング法によるC-Cu-S膜生成の温度依存性
- プラズマCVD-スパッタリング法によるC-Cu-S膜生成の温度依存性(有機エレクトロニクス・一般)
- プラズマCVD-スパッタリング共同によるC-Cu-S合成金属膜
- プラズマCVD-スパッタリング共同によるC-Cu-S合成金属膜(有機エレクトロニクス・一般)
- MPF光導波路の作成
- 無機、有機強誘電体の分極反転による電子放出(III族窒化物研究の最前線)
- 無機、有機強誘電体の分極反転による電子放出(III族窒化物研究の最前線)
- 無機、有機強誘電体の分極反転による電子放出(III族窒化物研究の最前線)
- SC-10-1 C-S-Au 膜 2D フォトニック結晶
- C-13-2 C-S-Au膜二次元フォトニック結晶の作成
- Ar・CH_4・SF_6混合ガスプラズマCVDによる炭素・硫黄混合膜作成
- 単離感覚神経細胞に対する電気刺激とその電気応答測定システムの作製
- イモリの単離嗅覚細胞の電気計測システム
- C-13-7 PMMA溝中へのポリスチレン微小球(2μmφ)配列
- 10〜1μmΦポリスチレン微小球配列の光伝搬特性
- D-16-10 ガラス球配列の画像伝送
- 10μmφポリスチレン微小球配列中の670nmレーザー光伝搬特性
- パルス化RF放電によるプラズマ重合アセチレン超薄膜の生成モデル
- 電子線励起プロセスに関する国際ワークショップ報告
- 7. 有機薄膜形成への応用
- 2Dフォトニック結晶を用いた光導波路
- 電子線真空リソグラフィ装置による回転角エンコ-ダの加工 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)