プラズマプロセスによるナノインシュレーションベッドの提案

概要

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量子ドット用基板はバリヤフリーな導電領域と絶縁領域を有することが不可欠であるが,ナノインシュレーションベッドはそうした要求を満たす新しい形の電子回路である。このようなナノインシュレーションベッドの作製には50nm以下の超微細加工が必要である。本報告では,このような回路を加工するために必要なナノメータリソグラフィプロセスの問題点を議論する。実験ではプラズマグラフトスチレン膜をスピンコートポリスチレン膜を作製し,微細加工プロセスを解析した。その界面のESCA測定の結果、スピンコート膜の場合、レジストと基板の間には化学的結合がないのに対し、プラズマグラフト重合膜の場合、レジストと基板が化学結合していることがわかった。また、スピンコートレジスト膜は電子線描画によって基板との間に新しく化学結合が生じることがわかった。50nm以下の超微細加工において,レジストと基板の界面の結合はパターン形成に大きな意味を持ち,この結合を用いる新たなパターン製作を可能とする。そしてこれらの技術により実現可能になった微細パターンを用い、ナノインシュレーションベッドの作製を試みる。そして,このベッドを基板にした量子ドットの作製を目指している。
社団法人電子情報通信学会の論文
2003-01-17

プラズマプロセスによるナノインシュレーションベッドの提案

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