厚さの異なるSiO_2キャップを用いた歪量子井戸選択的無秩序化によるレーザと受動素子の集積化
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概要
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モノリシック光集積デバイスにおける低損失受動導波路形成のための技術として、2種類の厚さのSiO_2キャップと高速熱処理を用いる量子井戸選択的無秩序化について検討した。膜厚の差による無秩序化の程度の違いを、フォトルミネッセンス測定により確認した。この技術を用いることで、同一基板上で23nmのレーザ発振波長差を得た。無秩序化した導波路を集積化したレーザを作製し, 受動導波路損失を評価し、無秩序化しない場合の40cm^<-1>から3cm^<-1>に顕著に低減できた。さらにグレーティング領域の量子井戸を無秩序化した分布ブラッグ反射型レーザを作製し、レーザ特性の大幅な改善を達成した。
- 2001-01-19
著者
-
西原 浩
大阪大学
-
島田 尚往
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
上向井 正裕
大阪大学大学院工学研究科
-
栖原 敏明
大阪大学大学院工学研究科
-
西原 浩
阪大工
-
西原 浩
放送大学 大阪学習センター
-
西原 浩
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
福本 豊
大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
西原 浩
大阪大学大学院工学研究科
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