シンクロトロン放射光によるポリイミドの屈折率制御と導波路回折格子作製法への応用
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概要
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シンクロトロン放射光照射によりフッ素化ポリイミドの屈折率が変化し, 照射量により10^<-2>の屈折率制御が可能なことを明らかにした.放射光照射後のポリイミドの化学状態をXPSを用いて検討し, ポリイミドの屈折率変化がフッ素原子の脱離に伴う分子容の減少に起因することを明らかにした.この屈折率制御性と放射光の直進性を利用して, フッ素化ポリイミド光導波路に回折格子パターンを有するX線マスクを介して放射光を照射するだけの導波路回折格子の作製法を提案した.この方法で作製した導波路回折格子は反射率60%, 半値幅0.25nmの光フィルタリング特性を示した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-02-25
著者
-
玉村 敏昭
Ntt 光エレクトロニクス研究所
-
小林 潤也
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
小林 潤也
NTT 光エレクトロニクス研究所
-
石井 哲好
NTT 光エレクトロニクス研究所
-
丸尾 容子
NTT 入出力システム研究所
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