VLSIパタン設計における多角形領域の分割アルゴリズム
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概要
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LSI設計におけるマスク・パタンは通常その境界に沿った頂点の列で表現されているが,これをマスク上に描く電子ビーム露光装置は水平な上底と下底を持つ台形を基本単位として処理する.したがって,マスクを作成するためには,マスク・パタンをこのような台形の集合で表現する必要があり,さらに,入力データ量を少なくするために,台形の数は必要最小個であることが望ましい.本稿では,多角形領域を最小個の上記台形の集合に分割する問題を扱う.まず,最小分割定理を示し,次に最小分割算法を提案すると共に,その複雑度がO(n log n)となることを示す.ここで,nは領域の頂点数である.最後に,この算法に関する計算機実験の結果を報告する.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1986-02-15
著者
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大附 辰夫
早稲田大学基幹理工学研究科情報理工学専攻
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佐藤 政生
早稲田大学理工学部
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大附 辰夫
早稲田大学理工学部
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大附 辰夫
早稲田大学
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大附 辰夫
早稲田大学理工学部電子通信学科
-
大附 辰夫
早稲田大学理工学部電子・情報通信学科
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