29a-YF-1 容量結合型大気圧・高周波プラズマの生成における電極材質の影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1997-03-17
著者
-
押鐘 寧
大阪大学工学部精密化学専攻量子計測領域
-
大山 貴裕
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
-
片岡 俊彦
大阪大 大学院工学研究科
-
遠藤 勝義
大阪大学工学部
-
片岡 俊彦
大阪大学工学研究科
-
大山 貴裕
大阪大学工学部
-
川島 雅人
大阪大学工学部
-
玉田 浩平
大阪大学工学部
-
玉田 浩平
大阪大学大学院工学研究科
-
川島 雅人
阪大院
関連論文
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第1報) -超純水静圧軸受けを用いた数値制御ステージシステムの開発-
- 29aZL-13 紫外および可視域分光による衝撃圧縮されたポリスチレンの温度と状態方程式の同時計測
- 光散乱法を用いたSiウエハ表面のウエット洗浄によるナノパーティクル評価
- ナノパーティクル測定機によるシリコンウエハ面のナノ欠陥計測
- レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の極薄酸化膜段差の計測
- STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の原子構造観察
- STMによる溶液処理水素終端化Si(001)表面の観察
- STMによる水素終端化Si(001)ウェーハ表面の観察
- 30p-F-2 低温におけるイオン結晶の破壊じん性
- STM/STSによるSiウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析
- STM/STSによる金属吸着Si(001)表面の観察
- STM/STSによるSiウェーハ表面の金属原子の観察
- STM/STSによるSiウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析
- 衝撃圧縮されたポリスチレンの温度・圧力・衝撃波速度の同時計測
- エキシマレーザによる基板表面凝集相の光化学反応
- 大気圧プラズマインピーダンス測定(第2報) : 測定装置内電磁界解析による測定原理の検証
- 大気圧プラズマインピーダンス測定(第1報) -測定原理, 測定結果, およびその測定精度について-
- 大気圧・高周波プラズマの特性-励起周波数, 圧力の違い-
- 大気圧RFプラズマの特性
- 25a-T-7 光散乱トポグラフィーによるき裂先端の観察
- レーザ光散乱法によるSiウエハ表面の微小欠陥計測
- 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
- 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
- レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の超微小欠陥計測
- 走査型近接場光学顕微鏡の開発 : 走査システムの改良と光硬化性樹脂によるプローブ製作
- 光ファイバ先端を点光源とした位相シフト型Point Diffraction Interferometer (PS-PD1)の開発 : 光源の位相シフトを利用した凹面鏡の形状計測
- 光散乱法を用いたシリコンウエハ面の洗浄によるナノ構造評価
- レーザ光散乱法によるSiウエハ付着超微粒子計測
- レーザー光散乱法によるSiウエハ表面上のナノパーティクルの計測
- 光ファイバからの点光源回折球面波を計測の絶対基準とした位相シフト光干渉計の開発
- 光散乱法によるSiウエハ表面欠陥の大面積計測
- 光散乱法による研磨・洗浄後のSiウエハ表面の評価
- 三次元境界要素法を用いたシリコンウエハ上の微粒子からの光散乱特性の解析
- 光散乱法によるSiウエハ表面のナノ微細欠陥とナノ構造の計測と評価
- 3次元境界要素法を用いた走査型近接場光学顕微鏡用の微粒子プローブ周りの電磁場伝搬解析
- 走査型近接場光学顕微鏡の高感度・高分解能プローブ開発 : 集光レーザ-スポット照射による微粒子プローブの創製
- シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 : 散乱光強度およびレンズによる像形成の計算
- 高分解能レーザー光法を用いた大気圧・高周波CVMプラズマ中のCF_xラジカル粒子の時空間分解密度計測
- 大気圧・高周波プラズマの計測と制御 : 発光分光を中心としたCVM用プラズマ中のフリーラジカル密度の分光計測
- エキシマレーザによる基板表面凝集相の光化学反応
- 19aRA-10 レーザー加速飛翔体(レーザーガン)による超高圧発生と状態方程式実験
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) : Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -Siウェーハ表面の観察-
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウエハ表面の微粒子および欠陥計測による表面評価
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -微小粒子の測定-
- ナノメータオーダの粒径測定機を用いたSiウェーハの洗浄による表面評価
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) -ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価-
- 微小球をプローブとする走査型近接場光学顕微鏡の開発--Pt薄膜上の100nm×100nm開孔からなる2次元配列構造の観察
- 光ファイバからの回折球面波を用いた位相シフト干渉計測--Phase-Shifting Point Diffraction Interferometryによる大口径光学素子の絶対形状計測
- プラズマCVMプロセス中のCF, CF_2ラジカルの分光計測 : レーザー誘起蛍光分光と紫外線吸収分光とによるラジカル密度分布診断
- 微粒子測定機による粗さ測定法とSiウエハ表面評価
- レーザ光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -P, S偏光による標準試料の測定-
- 共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の開発 : 標準試料の走査結果とプローブの性能評価
- 微小共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の特性
- sNOM用微小共振球プローブの電磁場解析による特性診断
- 微小共振球の近接場光学顕微鏡プローブへの応用
- 微小共振球プローブを用いた走査型近接場光学顕微鏡の開発
- 微小共振球をプローブとした近接場光学顕微鏡の開発
- 微小共振球をプローブとした近接場光学顕微鏡の開発 -微小共振球プローブの開発-
- 高圧力・高周波プラズマの計測と制御-赤外半導体レーザー吸収分光法によるプラズマ中のラジカル計測-
- 赤外半導体レーザー吸収分光法による大気圧・高周波プラズマ中のラジカル計測
- 大気圧・高周波プラズマ中の励起種密度の計測 -ホロカソードランプを用いた吸収分光計測-
- 光散乱法によるSiウエハ表面上のナノ形状欠陥の計測
- 微粒子定機によるナノメータオーダのSiウエハ表面形状の測定
- 微粒子測定機を用いたSiウェハ表面におけるナノメータオーダのスクラッチ形状の測定
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第6報) -Siウェーハ面の測定と微粒子付着分布による表面評価-
- 回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第5報) -高速形成a-Si薄膜の特性-
- 回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第4報) -a-Siの成膜速度の高速化-
- 回転電極を用いた大気圧プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第3報) -a-Si : H成膜プロセスにおけるパウダーの影響-
- EEM(Elastic Emission Machining)に関する研究 : 加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響
- EEM(Elastic Emission Machining) 加工システムの超清浄化
- レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発
- 半無限表面の電子状態の計算とそれに基づく光反射率スペクトルの解析
- PS-PDI(Phase-Shifting Point Diffraction Interferometer)による高精度形状計測法の開発
- Measurement Accuracy in Phase-Shifting Point Diffraction Interferometer with Two Optical Fibers
- 29a-YF-1 容量結合型大気圧・高周波プラズマの生成における電極材質の影響
- He高圧力・高周波プラズマの特性 -電極材質による相違-
- 大気圧・高周波プラズマの計測とシミュレーション
- 大気圧・高周波プラズマの特性
- 回転電極を用いた高圧力プラズマCVDによるSi薄膜の高速成膜に関する研究(第1報) -成膜装置の試作とその成膜特性-
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報) : 光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第5報) -ダイナミックレンジの改善法と標準粒子の測定-
- 光反射率スペクトルによるSi自然酸化表面の酸化膜厚およびひずみの計測
- 光反射率スペクトルによる超精密加工表面評価法の開発
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報) : 標準微粒子による粒径測定法の評価
- レーザ光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -レーザビーム走査型による標準試料の測定-
- 近接場光学 : ナノ構造形成による光機能性の発現
- Growth of Crystalline Silicon on a Cryogenic Substrate by Photochemical Reaction in a Condensed Phase
- 球状微小突起をプローブとした走査型近接場光学顕微鏡の開発
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -冷却CCDカメラによる標準試料の測定-
- 微小球内のWGM共振を利用した走査型近接場光学顕微鏡の開発
- 海外交流 完全表面創成のための精密科学と技術 第9回生産技術に関する国際会議報告
- レーザー光散乱によるSiウェーハ表面上の微粒子計測 -冷却CCDカメラによる測定-
- 高圧力・高周波プラズマの計測と制御 -吸収分光法による準安定粒子の診断-
- 高圧力・高周波プラズマの計測と制御 -プラズマの時空間分解発光分光測定-
- 金属微小球をプローブとした近接場光学顕微鏡
- 光ファイバリング共振器を用いた近接場の発生・検知システムの開発
- 走査型近接場光学顕微鏡のための超高感度プローブの設計 -FDTD法による微小共振球周りの三次元電磁場解析-
- 金属吸着Si(001)表面の局所状態密度の計算
- 走査型近接場光学顕微鏡による微細形状計測 (特集 最近の表面形状計測技術)