MOS界面準位密度の自動測定
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概要
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The microcomputer-controlled DLTS system for the automatic measurements of interface-state densities in MOS structures is described. The present system can draw curves of the interface-state densities versus temperature or energy level during a DLTS thermal scan. Therefore, this system allows the rapid evaluation of the interface-state densities and is suitable to the MOS process control. Experimental results are given for the nSi-SiO_2 interface.
- 愛知工業大学の論文
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