安全で安心な電子デバイスに向けた酸化物薄膜の問題点と高品質膜の作製法
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概要
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- 2009-07-23
著者
-
南戸 秀仁
金沢工業大学・ものづくり研
-
毛塚 博史
東京工科大
-
有沢 俊一
物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
-
菊地 悠太
東京工科大学
-
有沢 俊一
物質材料研究機構
-
遠藤 和弘
金沢工業大学
-
バディカ ピータ
ルーマニア国立材料物理研究所
-
毛塚 博史
東京工科大学
-
南戸 秀仁
金沢工業大学・工学研究科
-
南戸 秀仁
金沢工業大学
-
有沢 俊一
物質・材料研究機構
-
有澤 俊一
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
-
有沢 俊一
金材研
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