スタックCCDの光電変換膜における欠陥密度減少に伴う画素電極端での電界集中問題とその改善
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1996-06-21
著者
-
野崎 秀俊
株式会社東芝セミコンダクター社 システムlsi事業部
-
真鍋 宗平
株式会社東芝セミコンダクター社 システムlsi事業部
-
井原 久典
株式会社 東芝 研究開発センターULSI研究所
-
大場 英史
株式会社 東芝 研究開発センターULSI研究所
-
山口 鉄也
株式会社 東芝 研究開発センターULSI研究所
-
飯田 義典
株式会社 東芝 研究開発センターULSI研究所
-
野崎 秀俊
株式会社 東芝 研究開発センターULSI研究所
-
真鍋 宗平
株式会社 東芝 研究開発センターULSI研究所
-
大場 英史
東芝研究開発センターulsi研究所
-
井原 久典
(株)東芝 セミコンダクター社システムlsi事業部 システムlsi統括第一部
-
山口 鉄也
(株)東芝 セミコンダクター社システムlsi事業部 システムlsi統括第一部
関連論文
- プリプロセス形CCDイメージセンサ : 画素加算形1/3インチ16万画素CCD撮像素子 : 情報入力
- CMOSイメージセンサーにおける低電圧駆動埋め込みPDの解析
- CMOSイメージセンサにおける低電圧駆動埋込みPDの解析 : 埋込みPD構造による低リーク電流の検討(イメージセンシング技術)
- CMOSイメージセンサーにおける埋め込みPD構造の開発 : 埋め込みPD技術とCMOSセンサープロセスによるPDリーク電流の低減
- 3)3.7ミクロン角CMOSイメージセンサ(〔情報センシング研究会 コンシューマエレクトロニクス〕合同)
- 2)CMOSイメージセンサーにおける混色のシミュレーション解析(情報センシング研究会 : マルチメディア入力関連および一般)
- 3.7ミクロン角CMOSイメージセンサ
- 4)プリプロセス型CCDイメージセンサ : 画素加算型1/3インチ16万画素CCD撮像素子(情報入力研究会)
- 1)プリプロセス型CCDカメラ-CCDカメラの高感度化と広ダイナミックレンジ化(ハイビジョン特別研究会情報入力研究会)
- プリプロセス型CCDカメラ : CCDカメラの高感度化と広ダイナミックレンジ化
- 2.情報入力(テレビジョン年報)
- カラーシンクロビジョンCCDイメージセンサ(固体撮像技術)
- 10)スタックCCDの光電変換膜における欠陥密度減少に伴う画素電極端での電界集中問題とその改善([情報入力研究会 情報ディスプレイ研究会]合同)
- スタックCCDの光電変換膜における欠陥密度減少に伴う画素電極端での電界集中問題とその改善
- スタックCCDの光電変換膜における欠陥密度減少に伴う画素電極端での電界集中問題とその改善
- スタックCCDの光電変換膜における欠陥密度減少に伴う画素電極端での電界集中問題とその改善
- 単層メタル電極CCDイメージセンサの検討(固体撮像とその関連技術)
- 5-7 2/3イン200万画素スタックCCDの固定パターン雑音の低減
- 27-1 2/3インチ200万画素スタックCCD実験カラーカメラ
- 3)2/3インチ200万画素スタックCCD([情報入力研究会コンシューマエレクトロニクス研究会]合同)
- 2/3インチ200万画素スタックCCD : 情報入力,コンシューマエレクトロニクス
- 容量性残像のない200万画素PSID : 情報入力,コンシューマエレクトロニクス
- アモルファスSi積層型200万画素CCDイメ-ジセンサ (ULSI基盤技術)
- 6)HDTV用200万画素積層構造CCDイメージセンサ(〔テレビジョン方式・回路研究会 テレビジョン電子装置研究会〕合同)
- HDTV用200万画素積層構造CCDイメージセンサ : 方式・回路 : 電子装置
- 2-12 CCD用高感度電荷検出器
- 2-4 アモルファスシリコン膜積層型200万画素CCDイメージセンサ
- 2/3インチ200万画素スタックCCD
- 高感度CMOSイメージセンサ(アナログ・デジアナ・センサ, 通信用LSI)
- 高感度CMOSイメージセンサ
- 5)1/4インチVGA対応33万画秦CMOSイメージセンサー(〔情報入力研究会 コンシューマエレクトロニクス研究会〕合同)
- 1/4インチVGA対応33万画素CMOSイメージセンサー
- CMOSイメージセンサーにおける混色のシミュレーション解析
- 18-1 低残像積層型CCDセンサー
- 2)a-Siホトダイオードの過渡光電流特性とundoped a-Si : H膜特性との関係(情報入力研究会)
- a-Siホトダイオードの過度光電流特性とundoped a-Si : H膜特性との関係
- 1992年ISSCC報告
- Conference on Photoelectronic Imaging
- N doped a-Si:H層による積層型固体撮像素子の高輝度残像特性の改善 : 情報入力,情報ディスプレイ,コンシューマエレクトロニクス
- 2/3インチ40万画素低残像積層型CCDイメージセンサー
- 層流方式光CVD装置により成膜されたアモルファスシリコン膜特性の解析
- 2)層流方式光CVD法によるアモルファスシリコン膜形成方法(情報入力研究会)
- 層流方式光CVD法によるアモルファスシリコン膜形成方法 : 情報入力
- IEDM'90