電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタによるITO薄膜の大面積成膜法の研究
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概要
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Deposition method of ITO thin films with large area was developed. It utilized sheet shaped electron cyclotron resonance (ECR) plasma. It is composed of slot antennas on a rectangular waveguide, permanent magnets around the slots and a target within the discharge chamber. Microwaves of 2.45 GHz are radiated from the slots and generated plasma along the waveguide. With Ar sputtering, ITO thin films were deposited with thickness uniformity of ± 4.4% within 120 mm and deposition rate of 2.75 nm/min. Its resistivity was about 4 × 10<SUP>-4</SUP> Ωcm, and its transparency was above 70% at 550 nm without glass substrate.
- 日本真空協会の論文
- 2001-03-20
著者
-
田原 弘一
大阪大学大学院基礎工学研究科機能創成専攻
-
吉川 孝雄
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
安井 利明
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
吉川 孝雄
大阪大学基礎工学部機械工学科
-
吉川 孝雄
大阪大学大学院
-
田原 弘一
大阪大学大学院
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