303 層流熱プラズマジェットを用いたMOCVDによる酸化物光触媒皮膜の高速合成(OS10-I 表面改質)
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概要
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T To develop an atmospheric thermal plasma CVD process without substrate heating, photo-catalytic oxide film deposition by MOCVD using laminar flow thermal plasma jet was carried out. Consequently, the plasma jet was still laminar flow on the condition of under 40ml/h in ingredient feed rate, though it became turbulence due to combustion of ingredient with increasing ingredient feed rate. By using laminar flow thermal plasma jet, titanium oxide film with various types of crystal could be deposited without thermal damages of substrate in the case of titanium tetra buthoxide use as ingredient though this film didn't contain rutile and anatase.
- 2005-08-25
著者
-
田原 弘一
大阪大学大学院基礎工学研究科機能創成専攻
-
安藤 康高
足利工業大学
-
田原 弘一
大阪大学 大学院基礎工学研究科 機能創成専攻 機能デザイン領域
-
戸部 省吾
足利工大
-
佐藤 晃
足利工業大学大学院
-
安藤 康高
足利工大
-
戸部 省吾
足利工業大学
-
佐藤 晃
足利工大
-
田原 弘一
大阪大基礎工
-
Tahara Hirokazu
Department Of Mechanical Engineering Faculty Of Engineering Science Osaka University
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