305 熱プラズマMOCVDによる大気雰囲気下での柱状組織TiO_2皮膜の高速合成(OS10-II 表面改質)
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概要
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In order to obtain some useful information on rapid process for functional film deposition, TiO_2 film deposition by thermal plasma chemical vapor deposition (TPCVD) method under an atmospheric environment was carried out. Consequently, by using extension nozzle at the nozzle outlet, columnar structure film could be deposited since ingredient was perfectly vaporized by location of ingredient port to upstream. It is concluded that the proposed process is highly promising for rapid functional thin film formation.
- 2005-08-25
著者
-
田原 弘一
大阪大学大学院基礎工学研究科機能創成専攻
-
安藤 康高
足利工業大学
-
安藤 康高
足利工業大学 工学部 機械工学科
-
田原 弘一
大阪大学 大学院基礎工学研究科 機能創成専攻 機能デザイン領域
-
戸部 省吾
足利工大
-
安藤 康高
足利工大
-
戸部 省吾
足利工業大学
-
田原 弘一
大阪大基礎工
-
Tahara Hirokazu
Department Of Mechanical Engineering Faculty Of Engineering Science Osaka University
-
加藤 尚士
足利工大
-
福田 隆
足利工大
-
丸田 真司
足利工大
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