第2還元剤としてDMABを用いた銅ファインパターン上の選択的無電解ニッケルめっき
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概要
著者
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本間 英夫
関東学院大学 工学部
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本間 英夫
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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田代 雄彦
関東学院大学大学院
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橋本 幸雄
関東学院大学大学院 工学研究科
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本間 英夫
関東学院大学工学部物質生命科学科
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田代 雄彦
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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本間 英夫
関東学院大 工
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田代 雄彦
関東学院大学 材料・表面工学研究センター
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