紫外線処理による有機性汚濁指標としてのCOD除去
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概要
著者
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渡辺 秀人
小島化学薬品(株)ケミカル事業部
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本間 英夫
関東学院大学 工学部
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本間 英夫
株式会社関東学院大学表面工学研究所
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本間 英夫
関東学院大学工学部物質生命科学科
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本間 英夫
関東学院大 工
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渡辺 秀人
関東学院大学 大学院
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