Selective Excitation of a Symmetric Interference Plasmon Mode in Two Close Planar SiO_2/Si Interfaces Observed by Electron Energy-Loss Spectroscopy
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概要
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- Publication Office, Japanese Journal of Applied Physics, Faculty of Science, University of Tokyoの論文
- 2001-07-15
著者
-
Terauchi Masami
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
Terauchi Masami
Institute For Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
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Watada Atsuyuki
Research And Development Center Ricoh Co. Ltd.
-
Watada Atsuyuki
Research & Development Group Ricoh Company Ltd.
-
Tsubokawa Yoshiyuki
Kobelco Research Institute
-
Tsubokawa Yoshiyuki
Kobelco Research Institute Inc.
-
KOMODA Hirotaka
Electronic Devices Company, Ricoh Co., Ltd.
-
ISHIDA Kazutaka
Electronic Devices Company, Ricoh Co., Ltd.
-
SASAKAWA Kaoru
Kobelco Research Institute, Inc.
-
OKANO Tomoki
Kobelco Research Institute, Inc.
-
Okano Tomoki
Kobelco Research Institute Inc.
-
Sasakawa K
Kobelco Res. Inst. Inc.
-
Komoda Hirotaka
Electronic Devices Company Ricoh Co. Ltd.
-
Ishida Kazutaka
Electronic Devices Company Ricoh Co. Ltd.
-
Sasakawa Kaoru
Kobelco Research Institute Inc.
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