レーザーアブレーション法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と評価
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概要
著者
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塚本 桓世
SPring-8
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塚本 恒世
東理大理
-
桜木 史郎
ユニオンマテリアル株式会社
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塚本 桓世
東京理科大理
-
塚本 桓世
東京理科大学理学部応用物理学科
-
塚本 桓世
東京理科大学大学院理学研究科
-
掛本 博文
電子技総合研究所
-
牧田 雄之助
電子技総合研究所
-
牧田 雄之助
電総研
-
桜木 史郎
ユニオンマテリアル(株)
-
桜木 史郎
ユニオンマテリアル
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