31p-E-2 Maximum-entropy法によるFe-Si系化合物の電子密度分布
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P.D.Townsend, J.C.Kelly and N.E.W.Hartley偏, Ion Implantation, Sputtering and Their Applications, Academic Press, London and New York, 1976, ix+333ページ, 23.5×16cm, 8,360円.
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