半導体への粒子ビ-ム技術の応用 (粒子ビ-ムの応用技術<特集>)

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概要

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著者

• 牧田 雄之助

  電総研

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• 半導体への粒子ビ-ム技術の応用 (粒子ビ-ムの応用技術)
• P.D.Townsend, J.C.Kelly and N.E.W.Hartley偏, Ion Implantation, Sputtering and Their Applications, Academic Press, London and New York, 1976, ix+333ページ, 23.5×16cm, 8,360円.
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