秩父 重英 | 筑波大物工
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概要
関連著者
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秩父 重英
筑波大物工
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宗田 孝之
早稲田大学理工学術院
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秩父 重英
筑波大物理工
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宗田 孝之
早大理工
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羽豆 耕治
東北大学多元物質科学研究所
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羽豆 耕治
早大理工
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足立 智
北大工
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鈴木 克生
早大理工
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尾沼 猛儀
東北大学多元物質科学研究所
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宗田 孝之
早稲田大学
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足立 智
京大理
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足立 智
京都大学:日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター
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上殿 明良
筑波大数理
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上殿 明良
筑波大学電子物理工学系
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上殿 明良
筑波大学・物理工学系
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上殿 明良
筑波大学物理工学系
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向井 孝志
日亜化学工業
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秩父 重英
東北大学多元物質科学研究所
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DENBAARS Steven
Electrical and Computer Engineering Department, University of California
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Denbaars Steven
Jst-erato中村pj:ucsb
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Denbaars Steven
Materials Department University Of California
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中村 修二
Jst-erato中村pj:ucsb
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奥村 元
産業技術総合研究所
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奥村 元
産総研
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鳥井 康介
早大理工
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秩父 重英
筑波大学物理工学系
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黒田 剛正
早稲田大学理工学部
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尾沼 猛儀
筑波大学物理工学系
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北村 寿朗
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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竹内 淳
早稲田大学理工学部
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DenBaars Steven
Department of Materials Engineering, University of California
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中村 修二
科学技術振興事業団中村不均一結晶プロジェクト
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竹内 淳
早稲田大 理工
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奥村 元
産業技術総合研
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山本 直紀
東工大理工
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北村 寿朗
東理大
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Denbaars Steven
Department Of Electrical And Computer Engineering University Of California
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DenBaars Steven
Department of Electrical and Computer Engineering and Materials Department, University of California, Santa Barbara, CA 93106, U.S.A.
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秩父 重英
筑波大院電子物理工&21COE
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鈴木 智士
筑波大院電子物理工&21COE
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野坂 大樹
筑波大院電子物理工&21COE
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杉山 睦
筑波大院電子物理工&21COE
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尾沼 猛儀
科技機構創造中村P
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知京 豊裕
物材機構
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上殿 明良
筑波大院電子物理工&21COE
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知京 豊裕
物質・材料研究機構 半導体材料センター
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山本 直紀
東工大理
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知京 豊裕
(独)物質・材料研究機構
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中村 修二
日亜化学工業(株)第二部門開発部
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山本 直紀
東工大院理工:jst-crest
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八木 駿郎
北大電子研
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武貞 正樹
北大電子研
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杉山 睦
筑波大院電子物理工&21coe:(現)東京理科大学理工学部電気電子情報工学科
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知京 豊裕
金属材料技術研究所
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野坂 大樹
筑波大院電子物理工&21coe
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鈴木 智士
筑波大院電子物理工&21coe
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池田 大勝
早大理工
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大島 進
早大理工
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秩父 重英
筑波大電子・物理工&21COE
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Haskell B.A.
JST-ERATO中村PJ
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Speck J.S.
JST-ERATO中村PJ
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DenBaars S.P.
JST-ERATO中村PJ
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中村 修二
JST-ERATO中村PJ
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秩父 重英
国立大学法人筑波大学 大学院数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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Speck J.s.
Jst-erato中村pj:ucsb
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Haskell B.a.
Jst-erato中村pj:ucsb
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向井 孝志
日亜化学
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知京 豊裕
(独)物質・材料研究機構 半導体材料センター
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三田 朋宏
東工大総理工
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堀内 大吾
東工大理工
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Grillo V.
東工大理工
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伊東 洋嗣
東工大理
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三田 朋宏
東工大理
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DenBaar S.
Univ. California Santa Barbara
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秩父 重英
東北大多元研
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小豆畑 敬
弘前大理工
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鹿内 周
京大VBL
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Criila V.
東工大理工
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八木 駿郎
北大応電研
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伊東 洋嗣
東工大理工
著作論文
- 18aA07 AlGaN/GaN超格子挿入によるMOVPE成長立方晶GaN中の欠陥密度低減(立方晶GaN結晶成長を考える,ナノ・エピシンポジウム,第35回結晶成長国内会議)
- AlNエピタキシャル薄膜における励起子発光機構(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 立方晶および六方晶InGaNの発光特性比較 : 分極効果の有無と励起子局在効果(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 28aPS-18 c面およびa面GaNにおける励起子の緩和ダイナミクス(28aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- II-VI族酸化物半導体ZnOにおける励起子領域の光学スペクトル : III-V族窒化物半導体GaNとの類似点と相違点
- 30aPS-24 2光子吸収制御によるZnO励起子分子生成(領域5ポスターセッション)(領域5)
- 28pXQ-3 ZnOにおけるC励起子領域での四光波混合シグナル(励起子ポラリトン・緩和励起子)(領域5)
- 20aWB-2 ZnO における四光波混合シグナルの温度依存性
- 28pYF-8 ZnO における価電子帯オーダリング
- 28pYF-7 ZnO における四光波混合
- AlNエピタキシャル薄膜における励起子発光機構(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- AlNエピタキシャル薄膜における励起子発光機構(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 立方晶および六方晶InGaNの発光特性比較 : 分極効果の有無と励起子局在効果(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 24pYP-8 TEM-CL法によるGaN結晶中の格子欠陥評価
- 非極性面窒化物半導体発光素子の最近の動向 (特集 発光材料の新展開)
- 6aSK-5 ZnOにおけるブリルアン散乱(フォノン物性,領域10)
- 7aSG-4 Pump and probe法で観測したGaNにおける励起子の非線形効果(2)(励起子・ポラリトン・低次元物質,領域5)
- 7aSG-5 GaNでの励起子・励起子分子ダイナミクス(励起子・ポラリトン・低次元物質,領域5)
- 25aXR-9 TEM-CL法によるInGaN層の発光と格子欠陥II(25aXR 格子欠陥・ナノ構造,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性分野))
- 24aYE-8 Pump and probe法で観測したGaNにおける励起子の非線形効果(24aYE 励起子・ポラトリン,領域5(光物性分野))
- 24aWJ-7 GaN成長膜における格子欠陥の発光特性評価(24aWJ X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性分野))