原 徹 | 法政大学工学部
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概要
関連著者
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原 徹
法政大学工学部
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原 徹
法政大 工
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Hara T
Kanagawa Univ. Yokohama Jpn
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原 徹
法政大学
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奥田 智久
法政大学工学部
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品田 清隆
法政大学工学部
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木野 幸浩
理学電機X線研究所
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木野 幸浩
理学電機x線研
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木野 幸治
理学電機x線研究所
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土肥 俊郎
埼玉大学教育学部
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土肥 俊郎
埼玉大学 教育学部
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木下 将毅
埼玉大学
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河西 敏雄
埼玉大学
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酒井 謙児
(株)東京精密
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袋 裕善
日産化学工業株式会社・中央研究所
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堀 俊彦
理学電機x線研究所
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関根 幸平
イオン工学研究所
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関根 幸平
(株)イオン工学研究所
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柿崎 恵男
法政大学
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大島 創太郎
法政大学
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梶山 健二
イオン工学研究所
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米田 智晃
イオン工学研究所
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井上 森雄
イオン工学研究所
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KITAMURA Taira
Electrical Engineering, Hosei University
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関根 幸平
イオン工学研
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梶山 健二
(株)イオン工学研究所
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Kitamura Taira
Electrical Engineering Hosei University
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佐藤 貴久
理学電機X線研究所
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長野 昌三
三菱化成総合研究所
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上田 忠雄
三菱化成総合研究所
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田中 新吾
法政大学
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米田 知晃
(株)イオン工学研究所
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田村 文男
法政大学
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木下 圭
住エレ・エスイーゼット(株)
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佐藤 啓介
住エレ・エスイーゼット(株)
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神月 靖
住エレ・エスイーゼット(株)
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井上 森雄
(株)イオン工学研究所
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小林 一郎
日産化学工業
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石井 和久
日産化学工業
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宮澤 知江
日産化学工業
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STEVENS Russell
ATMI
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柳田 育香
埼玉大学
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神月 靖
住エレ・エスイーゼット
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袋 裕善
日産化学工業(株)電子材料研究所
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袋 裕善
日産化学工業 (株) 中央研究所
著作論文
- 水素イオン注入によるSi及びSiC薄膜のデラミネーション
- Al-Si-Cu半導体超LSI電極スパッタリング膜の〈111〉結晶軸配向性
- シリコン裏面研磨ダメージによるシリコンウエハ表面の少数キャリアライフタイムの低下
- CMP後の汚染Cuの洗浄に関する検討
- 高エネルギーイオン注入および高ドーズ水素イオン注入の応用
- パターン平坦化研磨プロセスの評価技術(機械的プラナリゼーション技術)
- 1/4ミクロンプロセスに用いるオーミック電極と配線技術
- Al-Si-Cu配線膜の(111)面からの傾きとこれに影響を与えるCu高濃度層
- 低誘電率SOG膜のプラナリゼーションポリシング/CMPの検討