小須田 求 | キヤノンアネルバ株式会社

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概要

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関連著者

• 小須田 求

  キヤノンアネルバ株式会社

• 渡辺 直樹

  キャノンアネルバ

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  アネルバ株式会社

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キャノンアネルバ

• ジャヤプラウィラ ダビッドd.

  キャノンアネルバ

• 長井 基将

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部

• 渡辺 直樹

  アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部

• 長井 基将

  アネルバ株式会社

• 小須田 求

  アネルバ株式会社

• 小須田 求

  キヤノンアネルバ

• 恒川 孝二

  アネルバ(株)

• 渡部 平司

  大阪大学

• 前原 大樹

  キャノンアネルバ

• 前原 大樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  キヤノンアネルバ株式会社

• ジャヤプラウィラ ダビッド

  キヤノンアネルバ株式会社

• 渡辺 直樹

  キヤノンアネルバ株式会社

• 長田 智明

  キヤノンアネルバ株式会社

• 小平 吉三

  キヤノンアネルバ株式会社

• ジャヤプラウィラ ダビッドD.

  アネルバ株式会社

• ジャヤプラウィラ D.

  アネルバ株式会社エレクトロンデバイス装置事業部

• 有村 拓晃

  大阪大学

• 奥 雄大

  大阪大学

• 細井 卓治

  大阪大学

• 志村 考功

  大阪大学

• 北野 尚武

  大阪大学

• 内藤 裕一

  産業技術総合研究所

• 山口 述夫

  キヤノンアネルバ

• 清野 拓哉

  キヤノンアネルバ(株)

• 中津留 順子

  キヤノンアネルバ(株)

• 伊達 大樹

  キヤノンアネルバ(株)

• 真白 すぴか

  キヤノンアネルバ(株)

• 池本 学

  キヤノンアネルバ(株)

• 志村 考功

  大阪大学大学院工学研究科

• 渡部 平司

  大阪大学大学院工学研究科

• 細井 卓治

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• ジャヤプラウィラ D.

  東北大学大学院工学研究科電子工学

• 細井 卓治

  大阪大学大学院工学研究科

• 奥 雄大

  大阪大学大学院工学研究科

• 有村 拓晃

  大阪大学大学院工学研究科

• 北野 尚武

  大阪大学大学院工学研究科

• 前原 大樹

  産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター

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著作論文

• 半導体製造ラインにおける磁気トンネル接合の成膜と微細加工プロセス
• 高性能トンネル磁気抵抗効果TMR膜を形成するためのスパッタ成膜技術(「磁性薄膜作製技術」)
• GMR/TMR膜作製における膜表面処理技術
• プラズマトリートメントによるTMR多層膜のH_低減
• 真空一貫原子制御PVDプロセスによるTiO_2/HfSiO/SiO_2積層構造 High-k 絶縁膜の作製と電気特性評価
• 極薄SiGeバッファ層を用いたSi(100)基板上へのGeヘテロエピタキシャル成長
• MRAM量産用新規PVD装置C-7100
• MRAM量産用新規PVD装置C-7100

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