長井 基将 | アネルバ株式会社

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概要

• 同名の論文著者
• アネルバ株式会社の論文著者

関連著者

• 渡辺 直樹

  キャノンアネルバ

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• 長井 基将

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部

• 渡辺 直樹

  アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部

• 長井 基将

  アネルバ株式会社

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  アネルバ株式会社

• ダビッド ジャヤプラウィラ

  キャノンアネルバ

• ジャヤプラウィラ ダビッドd.

  キャノンアネルバ

• 小須田 求

  キヤノンアネルバ株式会社

• 小須田 求

  アネルバ株式会社

• ジャヤプラウィラ D.

  アネルバ株式会社エレクトロンデバイス装置事業部

• ジャヤプラウィラ D.

  東北大学大学院工学研究科電子工学

• ジャヤプラウィラ ダビッドD.

  アネルバ株式会社

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著作論文

• 高性能トンネル磁気抵抗効果TMR膜を形成するためのスパッタ成膜技術(「磁性薄膜作製技術」)
• GMR/TMR膜作製における膜表面処理技術
• プラズマトリートメントによるTMR多層膜のH_低減
• IrMnベーススピンバルブ膜におけるNiFeCr下地層の効果

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