長井 基将 | キヤノンアネルバ株式会社
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概要
関連著者
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渡辺 直樹
キャノンアネルバ
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恒川 孝二
キャノンアネルバ
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長井 基将
キヤノンアネルバ株式会社
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ダビッド ジャヤプラウィラ
アネルバ株式会社
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ダビッド ジャヤプラウィラ
キャノンアネルバ
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キャノンアネルバ
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アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部
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アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部
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小須田 求
キヤノンアネルバ株式会社
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小須田 求
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アネルバ株式会社エレクトロンデバイス装置事業部
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ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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福島 章雄
産総研
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前原 大樹
キヤノンアネルバ株式会社
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恒川 孝二
キヤノンアネルバ株式会社
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渡辺 直樹
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久保田 均
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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産業技術総合研究所
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岡田 英里子
キヤノンアネルバ株式会社
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ジャヤプラウィラ ダビッドD.
アネルバ株式会社
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久保田 均
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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久保田 均
産業技術総合研
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前原 大樹
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター
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安藤 功兒
産業技術総合研
著作論文
- 極薄Mg層を挿入したMgO障壁層を用いた磁気トンネル接合に関する評価
- 高性能トンネル磁気抵抗効果TMR膜を形成するためのスパッタ成膜技術(「磁性薄膜作製技術」)
- GMR/TMR膜作製における膜表面処理技術
- プラズマトリートメントによるTMR多層膜のH_低減
- IrMnベーススピンバルブ膜におけるNiFeCr下地層の効果