プラズマトリートメントによるTMR多層膜のH_<in>低減
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
渡辺 直樹
キャノンアネルバ
-
恒川 孝二
キャノンアネルバ
-
小須田 求
キヤノンアネルバ株式会社
-
長井 基将
キヤノンアネルバ株式会社
-
恒川 孝二
アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部
-
渡辺 直樹
アネルバ株式会社エレクトロデバイス装置事業部
-
長井 基将
アネルバ株式会社
-
小須田 求
アネルバ株式会社
-
ダビッド ジャヤプラウィラ
アネルバ株式会社
-
ジャヤプラウィラ D.
アネルバ株式会社エレクトロンデバイス装置事業部
-
ダビッド ジャヤプラウィラ
キャノンアネルバ
-
ジャヤプラウィラ ダビッドd.
キャノンアネルバ
-
ジャヤプラウィラ D.
東北大学大学院工学研究科電子工学
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