極薄SiGeバッファ層を用いたSi(100)基板上へのGeヘテロエピタキシャル成長
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概要
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- 2007-07-12
著者
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小須田 求
キヤノンアネルバ株式会社
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小須田 求
キヤノンアネルバ
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清野 拓哉
キヤノンアネルバ(株)
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中津留 順子
キヤノンアネルバ(株)
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伊達 大樹
キヤノンアネルバ(株)
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真白 すぴか
キヤノンアネルバ(株)
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池本 学
キヤノンアネルバ(株)
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