内藤 裕一 | 産業技術総合研究所

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概要

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関連著者

• 内藤 裕一

  産業技術総合研究所

• 渡部 平司

  大阪大学大学院工学研究科

• 渡部 平司

  大阪大学

• 小須田 求

  キヤノンアネルバ株式会社

• 小須田 求

  キヤノンアネルバ

• 有村 拓晃

  大阪大学

• 奥 雄大

  大阪大学

• 細井 卓治

  大阪大学

• 志村 考功

  大阪大学

• 北野 尚武

  大阪大学

• 山口 述夫

  キヤノンアネルバ

• 志村 考功

  大阪大学大学院工学研究科

• 細井 卓治

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 細井 卓治

  大阪大学大学院工学研究科

• 奥 雄大

  大阪大学大学院工学研究科

• 有村 拓晃

  大阪大学大学院工学研究科

• 北野 尚武

  大阪大学大学院工学研究科

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著作論文

• 真空一貫原子制御PVDプロセスによるTiO_2/HfSiO/SiO_2積層構造 High-k 絶縁膜の作製と電気特性評価
• 走査型容量顕微鏡による誘電体/伝導性薄膜観察 (小特集 半導体産業で利用される走査プローブ顕微鏡技術)
• 走査型容量顕微鏡による誘電体/伝導性薄膜観察
• 走査型容量顕微鏡による誘電体／伝導性薄膜観察

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