和泉 富雄 | 東海大学総合科学技術研究所
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概要
関連著者
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和泉 富雄
東海大学総合科学技術研究所
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和泉 富雄
東海大学
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和泉 富雄
東海大学工学部
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小林 武
神奈川工科大学電気電子工学科
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高畠 信也
神奈川工科大学電気電子工学科
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高畠 信也
神奈川工科大
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庄 善之
東海大学電子情報学部電気電子工学科
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岩瀬 満雄
東海大学
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岩瀬 満雄
東海大
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桑畑 周司
東海大・教養
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佐藤 慶介
東海大学
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庄 善之
電気通信大学
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桑畑 周司
東海大学
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森崎 弘
電気通信大学
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和泉 富雄
電子情報学部エレクトロニクス学科
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和泉 富雄
東海大学電子情報学部エレクトロニクス学科
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柴田 肇
電総研
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小林 直人
電総研
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塚本 桓世
東理大理
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塚本 桓世
SPring-8
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小原 明
電総研
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岩瀬 満雄
東海大学工学部材料科学科
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岩瀬 満雄
東海大学工学部
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掛本 博文
東理大理
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牧田 雄之助
電総研
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桜木 史朗
ユニオンマテリアル(株)
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佐藤 慶介
東海大学工学部
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植草 新一郎
明治大学理工学部
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石井 慶信
原研東海
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石井 慶信
放振協
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坂本 勲
電総研
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勝俣 裕
(株)東芝生産技術センター
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植草 新一郎
明治大学理工学部電気電子工学科
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植草 新一郎
明治大学
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飯田 昌盛
東海大学工学部電子工学科
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矢口 紀恵
日立サイエンスシステムズ
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矢口 紀恵
日立ハイテクノロジーズ 那珂事業所
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上野 武夫
日立サイエンスシステムズ
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上野 武夫
山梨大学 燃料電池ナノ材料研究センター
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広瀬 洋一
東海大学電子情報学部エレクトロニクス学科
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広瀬 洋一
東海大学工学部電子工学科
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秋葉 幸男
東海大
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黒須 楯生
東海大
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秋葉 幸男
東海大学工学部
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黒須 楯生
東海大学工学部
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庄 善之
東海大学工学部
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飯田 昌盛
東海大学短期大学部
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飯田 昌盛
東海大学短期大学部高輪校舎情報・ネットワーク学科
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小林 弘幸
日立・計測器事業部
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小林 弘幸
日立製作所計測器事業部
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庄 善之
ミシガン州立大学
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桑畑 周司
東海大・工
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武藤 信男
東海大・工
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佐藤 慶介
東海大・工
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和泉 富雄
東海大・工
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岩瀬 満雄
東海大・工
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上原 富美哉
東海大・教養
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野崎 真次
電気通信大学
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庄 善之
東海大学工学部電気電子工学科
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長澤 弘幸
HOYA株式会社材料研究所
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山口 洋一
HOYA株式会社材料研究所
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月花 靖雄
東海大学工学部電気工学科
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安藤 靜敏
東理大理
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岡村 総一郎
東理大理
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蔡 育欣
ユニオンマテリアル
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勝俣 裕
電総研
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山内 秀彦
株式会社エイコー・エンジニアリング
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黒須 楯生
東海大学電子情報学部エレクトロニクス学科
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矢部 裕
東海大学工学研究科電子工学専攻
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広瀬 洋一
東海大 電子情報
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武藤 信男
東海大学工学部
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武藤 信男
東海大・電子情報
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安村 洋一
東海大学工学部電子工学科
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藤屋 正晴
東海大学電子工学科
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〓畠 信也
神奈川工科大学
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月花 靖雄
東海大学工学部電子工学科
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飯田 昌盛
東海大学
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上野 武夫
日立サイエンスシステム テクノリサーチラボ
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広瀬 洋一
日本工業大学
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黒須 楯生
東海大 情報理工
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長澤 弘幸
Hoya株式会社先端技術研究所
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上野 武夫
日立サイエンスシステム
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和泉 富雄[他]
東海大学工学部電子工学科
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飯田 昌盛
東海大学工学部
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広瀬 洋一
東海大学工学部
著作論文
- Si超微粒子を用いたELデバイスからの発光特性の改善
- ナノクリスタルSiの形成とESR・発光評価
- PD01 SiO_2薄膜中でのSi超微粒子の形成過程における光音響スペクトルとPLスペクトルの変化(ポスターセッションI)
- SiドープSiO_2薄膜の欠陥構造
- CVDダイヤモンド薄膜表面からの電子放出と欠陥密度との関係
- SiO_2膜中のSiナノ結晶成長の高分解能その場観察
- 地球と人にやさしいエレクトロニクス技術の革新を(エレクトロニクス(電子工学)特集)
- エレクトロニクス学科の目的と特徴 (電子情報学部設立記念号)
- ホットウォールタイプLPCVD法をもちいたSi上への単結晶3C-SiC成長技術
- 30p-L-10 Fe-Si系化合物の作製と評価(II)
- Fe-Si系半導体の作製と評価
- 高周波プラズマCVD法を用いたガラス基板上へのカーボンナノチューブの作製と評価(電気電子工学)
- 光音響法によるSiイオンを注入したシリコン基板の熱伝導率とアニール特性の研究
- イオン打ち込みによる結晶破壊層の熱伝導率のアニール特性
- イオン打ち込みによる結晶破壊層の熱伝導率のアニール特性
- イオン打ち込みによる結晶破壊層の熱伝導率のアニール特性
- イオン打ち込みによる結晶破壊層の熱伝導率のアニール特性
- 光音響法を用いた熱伝導率を通しての半導体薄膜の特性評価
- US2000-27 / EMD2000-23 / CPM2000-38 / OME2000-33 ダイヤモンド薄膜の熱特性画像
- US2000-27 / EMD2000-23 / CPM2000-38 / OME2000-33 ダイヤモンド薄膜の熱特性画像
- US2000-27 / EMD2000-23 / CPM2000-38 / OME2000-33 ダイヤモンド薄膜の熱特性画像
- US2000-27 / EMD2000-23 / CPM2000-38 / OME2000-33 ダイヤモンド薄膜の熱特性画像
- 光音響法によるGaAsのSiイオン打ち込み層の熱伝導率の測定
- 光音響法によるGaAsのSiイオン打ち込み層の熱伝導率の測定
- 光音響法によるGaAsのSiイオン打ち込み層の熱伝導率の測定
- 光音響法によるGaAsのSiイオン打ち込み層の熱伝導率の測定
- Si単結晶のHのふるまい : 半導体 (拡散・インプランテーション)