柴田 肇 | 電総研
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概要
関連著者
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柴田 肇
電総研
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柴田 肇
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
-
仁木 栄
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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柴田 肇
(独)産業技術総合研究所
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柴田 肇
産総研
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反保 衆志
産総研
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反保 衆志
産業技術総合研究所
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柴田 肇
産総研エレクトロニクス
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牧田 雄之助
電総研
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松原 浩司
産総研
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松原 浩司
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
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滝田 宏樹
筑波大物質工
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田仲 由喜夫
名大工
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仁木 栄
産業技術総合研究所
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澤 彰仁
電総研
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山田 昭政
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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柏谷 聡
電総研
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仁木 栄
産総研
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石塚 尚吾
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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松原 礼高
筑波大物質工学系
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柴田 肇
産業技術総合研究所
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澤彰 仁
電総研
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高増 正
物材機構
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前島 圭剛
(独)産業技術総合研究所
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今中 康貴
物材機構
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石塚 尚吾
産業技術総合研究所
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山田 昭政
産業技術総合研究所
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小林 直人
電総研
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塚本 桓世
東理大理
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塚本 桓世
SPring-8
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山田家 和勝
(独)産業技術総合研究所 計測フロンティア研究部門
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小原 明
電総研
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和泉 富雄
東海大学工学部
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掛本 博文
東理大理
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桜木 史朗
ユニオンマテリアル(株)
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小牧 弘典
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター化合物薄膜チーム
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和泉 富雄
東海大学総合科学技術研究所
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和泉 富雄
東海大学
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今中 康貴
物質材料研究機構強磁場共用ステーション
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高増 正
物質材料研究機構強磁場共用ステーション
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山田家 和勝
産総研
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小牧 弘典
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
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竹端 寛治
物材機構
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横井 裕之
熊大自然
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松原 浩司
(独)産業技術総合研究所
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反保 衆志
(独)産業技術総合研究所
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山田 昭政
(独)産業技術総合研究所
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石塚 尚吾
(独)産業技術総合研究所
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仁木 栄
(独)産業技術総合研究所
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寺田 教男
鹿児島大学院理工
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植草 新一郎
明治大学理工学部
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酒井 政道
埼玉大工
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酒井 政道
埼大院理工
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寺田 教男
鹿児島大学大学院・理工学研究科
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石井 慶信
原研東海
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石井 慶信
放振協
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坂本 勲
電総研
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滝田 宏樹
筑波大 物質工
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横井 裕之
熊大院自然
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黒田 規敬
熊大院自然
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勝俣 裕
(株)東芝生産技術センター
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植草 新一郎
明治大学理工学部電気電子工学科
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植草 新一郎
明治大学
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山田 昭政
電子技術総合研究所
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横井 裕之
産総研
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柳澤 孝
産総研エレクトロニクス
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上野 滋弘
筑波大物質工
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安藤 靜敏
東理大理
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岡村 総一郎
東理大理
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蔡 育欣
ユニオンマテリアル
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勝俣 裕
電総研
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木村 眞次
電総研
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津川 晃一
熊大院自然
-
熊谷 雄児
熊大院自然
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竹端 寛治
物材機構ナノマテ研
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反保 衆志
産業技術総合研究所太陽光発電研究センター
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柳澤 孝
産総研エレクトロニクス:crest
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柳澤 孝
電総研
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滝田 広樹
筑波大物質工学系
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牧田 雄之助
電子技術総合研究所 光技術部
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柴田 肇
電子技術総合研究所
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上野 滋弘
筑波大物質工:電総研
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寺田 教男
鹿児島大学
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上川 由紀子
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
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古江 重紀
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
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牧田 雄之助
電子技術総合研究所
著作論文
- ZnO系混晶材料を用いた透明導電膜の開発
- 26aXD-5 ZnO 2次元電子系のサイクロトロン共鳴(量子井戸・超格子・光応答,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 31a-S-12 P型GaAsにおけるフォトリフレクタンス : アクセプター濃度依存性
- 30p-L-10 Fe-Si系化合物の作製と評価(II)
- Fe-Si系半導体の作製と評価
- 18pZB-9 MBE成長Zn_Mg_xO/ZnO/sapphireの斜入射ヘテロ残留線反射(高密度励起現象・励起子・ポラリトン,領域5,光物性)
- 27pYL-4 NCCO薄膜のサブミリ波 : 遠赤外光学伝導度測定 II
- 25aWQ-11 ZnMgO/ZnOヘテロ接合試料における磁気光学測定(25aWQ 量子井戸・超格子,領域4(半導体メゾスコピック系・局在))
- ZnO系エピタキシャル薄膜の高品質化とヘテロ接合
- 酸化亜鉛薄膜のデバイスへの応用 (特集 酸化亜鉛の新展開(2))
- 酸化亜鉛系薄膜の高品質化とデバイスへの応用 (特集 可能性広がる酸化亜鉛--実用化に向けた開発動向を探る)
- 紫外線を高効率で発光する半導体材料Zn[1-x]Mg[x]Oの開発 (特集 新素材開発が拓く新領域)
- CuInSe2エピタキシャル薄膜からの励起子発光 (特集:カルコパイライト半導体) -- (物性評価--光物性)
- 放電励起F2レ-ザ-の実用化に関する研究 (超先端加工システムの研究開発) -- (表層改質のその場計測評価)
- ArFエキシマレ-ザ-複合熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜の気相合成の研究 (超先端加工システムの研究開発) -- (表層改質のその場計測評価)
- 新しい半導体材料高濃度イオンビーム不純物導入技術と非熱平衡材料の創製(SiGeC)
- 29pYL-12 NCCOトンネル分光のドープ量依存性
- 28aYJ-3 トンネルスペクトルから見た超伝導対称性
- CIGS太陽電池の現状と将来展望
- フォトルミネッセンスにおける負の温度消光
- Sn+をイオン注入したGaAsに対するパルス紫外線レ-ザ-の照射効果に関する研究 (超先端加工システムの研究開発) -- (表層改質のその場計測評価)
- 酸化亜鉛系透明導電膜の開発 (特集 第25回テクノフェスタ)
- 産総研におけるCIGS太陽電池の産業化に向けた研究開発